ଏହି କାର୍ଯ୍ୟର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହେଉଛି ଉଚ୍ଚମାନର ସଠିକତା ଏବଂ ପୂର୍ବ ନିର୍ଦ୍ଧାରିତ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଖର୍ଚ୍ଚ ସହିତ ଏକ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବିକାଶ କରିବା |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ Nd ର ଲେଜର ଫ୍ୟାକେସନ୍ ପାଇଁ ଆକାର ଏବଂ ମୂଲ୍ୟ ପୂର୍ବାନୁମାନ ମଡେଲଗୁଡିକର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ: PMMA ରେ YVO4 ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲାଇଡିକ୍ ଉପକରଣ ତିଆରି ପାଇଁ ପଲିକାର୍ବୋନେଟର ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ |ଏହି ପ୍ରକଳ୍ପ ଲକ୍ଷ୍ୟ ହାସଲ କରିବାକୁ, ANN ଏବଂ DoE CO2 ଏବଂ Nd: YVO4 ଲେଜର ସିଷ୍ଟମର ଆକାର ଏବଂ ମୂଲ୍ୟ ତୁଳନା କଲେ |ଏନକୋଡର୍ ଠାରୁ ମତାମତ ସହିତ ଲାଇନ୍ ପୋଜିସନ୍ ର ସବମିକ୍ରନ୍ ସଠିକତା ସହିତ ମତାମତ ନିୟନ୍ତ୍ରଣର ଏକ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ କାର୍ଯ୍ୟକାରିତା କାର୍ଯ୍ୟକାରୀ ହୁଏ |ବିଶେଷ ଭାବରେ, ଲେଜର ବିକିରଣର ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଏବଂ ନମୁନା ପୋଜିସନ୍ FPGA ଦ୍ୱାରା ନିୟନ୍ତ୍ରିତ |Nd ର ଗଭୀର ଜ୍ଞାନ: YVO4 ସିଷ୍ଟମ୍ ଅପରେଟିଂ ପ୍ରଣାଳୀ ଏବଂ ସଫ୍ଟୱେର୍ କଣ୍ଟ୍ରୋଲ୍ ୟୁନିଟ୍ କୁ ଏକ କମ୍ପାକ୍ଟ-ରିଓ ପ୍ରୋଗ୍ରାମେବଲ୍ ଅଟୋମେସନ୍ କଣ୍ଟ୍ରୋଲର୍ (PAC) ସହିତ ବଦଳାଇବାକୁ ଅନୁମତି ଦେଲା, ଯାହା ହାଇ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ଫିଡବ୍ୟାକ୍ 3D ପୋଜିସନ୍ ଷ୍ଟେପ୍ ରେ LabVIEW କୋଡ୍ କଣ୍ଟ୍ରୋଲ୍ ସବମିକ୍ରନ୍ ଏନକୋଡର୍ସରେ ସମ୍ପନ୍ନ ହୋଇଥିଲା | ।LabVIEW କୋଡ୍ ରେ ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ବିକାଶରେ ଅଛି |ସାମ୍ପ୍ରତିକ ଏବଂ ଭବିଷ୍ୟତ କାର୍ଯ୍ୟରେ ରାସାୟନିକ / ଆନାଲିଟିକାଲ୍ ପ୍ରୟୋଗ ଏବଂ ପୃଥକ ବିଜ୍ଞାନ ପାଇଁ ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲୁଇଡିକ୍ ଏବଂ ଲାବୋରେଟୋରୀ ଉପକରଣ-ଅନ୍-ଚିପ୍ ତିଆରି ପାଇଁ ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲ୍ ଜ୍ୟାମିତିର ଆନୁମାନିକ ଅପ୍ଟିମାଇଜେସନ୍, ଡିଜାଇନ୍ ସିଷ୍ଟମର ସଠିକତା ଏବଂ ପୁନ oduc ପ୍ରବୃତ୍ତିର ମାପ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
ଛାଞ୍ଚ ହୋଇଥିବା ଅର୍ଦ୍ଧ-ହାର୍ଡ ଧାତୁ (SSM) ଅଂଶଗୁଡ଼ିକର ଅନେକ ପ୍ରୟୋଗ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ଆବଶ୍ୟକ କରେ |ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ଯେପରିକି ପୋଷାକ ପ୍ରତିରୋଧ, ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଏବଂ କଠିନତା ଅଲ୍ଟ୍ରା-ସୂକ୍ଷ୍ମ ଶସ୍ୟ ଆକାର ଦ୍ୱାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ |ଏହି ଶସ୍ୟ ଆକାର ସାଧାରଣତ the SSM ର ସର୍ବୋତ୍କୃଷ୍ଟ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ |ଅବଶ୍ୟ, SSM କାଷ୍ଟିଂରେ ପ୍ରାୟତ res ଅବଶିଷ୍ଟ ପୋରୋସିଟି ରହିଥାଏ, ଯାହା କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ପାଇଁ ଅତ୍ୟନ୍ତ କ୍ଷତିକାରକ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ଉଚ୍ଚମାନର ଅଂଶ ପାଇବା ପାଇଁ ଅର୍ଦ୍ଧ-କଠିନ ଧାତୁ ଗଠନ କରିବାର ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯିବ |ଏହି ଅଂଶଗୁଡିକ ପୋରୋସିଟି ଏବଂ ଉନ୍ନତ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରାଲ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ହ୍ରାସ କରିବା ଉଚିତ୍, ଅଲ୍ଟ୍ରା-ସୂକ୍ଷ୍ମ ଶସ୍ୟ ଆକାର ଏବଂ କଠିନ ବୃଷ୍ଟିପାତର ସମାନ ବଣ୍ଟନ ଏବଂ ମିଶ୍ରିତ ମାଇକ୍ରୋ ଏଲିମେଣ୍ଟ ରଚନା ସହିତ |ବିଶେଷ ଭାବରେ, ଇଚ୍ଛିତ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରର ବିକାଶ ଉପରେ ସମୟ-ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରାକୃତିକ ପଦ୍ଧତିର ପ୍ରଭାବ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରାଯିବ |ଜନତାଙ୍କ ଉନ୍ନତି ଦ୍ resulting ାରା ଗୁଣଗୁଡିକ, ଯେପରିକି ଶକ୍ତି ବୃଦ୍ଧି, କଠିନତା ଏବଂ କଠିନତା ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯିବ |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ହେଉଛି ଏକ ପଲ୍ସଡ୍ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ମୋଡ୍ ବ୍ୟବହାର କରି H13 ଟୁଲ୍ ଷ୍ଟିଲର ପୃଷ୍ଠର ଲେଜର ରୂପାନ୍ତରର ଏକ ଅଧ୍ୟୟନ |ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ସ୍କ୍ରିନିଂ ଯୋଜନା ଏକ ଅଧିକ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ ବିସ୍ତୃତ ଯୋଜନା ସୃଷ୍ଟି କଲା |10.6 µm ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ବିଶିଷ୍ଟ ଏକ କାର୍ବନ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ (CO2) ଲେଜର ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଅଧ୍ୟୟନର ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଯୋଜନାରେ, ତିନୋଟି ଭିନ୍ନ ଆକାରର ଲେଜର ଦାଗ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇଥିଲା: 0.4, 0.2, ଏବଂ 0.09 ମିମି ବ୍ୟାସ |ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ପାରାମିଟରଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ଲେଜର ଶିଖର ଶକ୍ତି, ନାଡିର ପୁନରାବୃତ୍ତି ହାର ଏବଂ ନାଡିର ଓଭରଲପ୍ |0.1 MPa ଚାପରେ ଆର୍ଗନ୍ ଗ୍ୟାସ୍ କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ |CO2 ଲେଜର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟରେ ଭୂପୃଷ୍ଠର ଅବଶୋଷଣ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପୂର୍ବରୁ ନମୁନା H13 କୁ କଠିନ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଭାବରେ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇଥିଲା |ଧାତବ ଅଧ୍ୟୟନ ପାଇଁ ଲେଜର-ଚିକିତ୍ସିତ ନମୁନାଗୁଡିକ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ସେମାନଙ୍କର ଶାରୀରିକ ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଗୁଡିକ ବର୍ଣ୍ଣିତ ହୋଇଥିଲା |ମେଟାଲୋଗ୍ରାଫିକ୍ ଅଧ୍ୟୟନ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଗଠନର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଶକ୍ତି ବିଛିନ୍ନ ଏକ୍ସ-ରେ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରୋମେଟ୍ରି ସହିତ ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି ବ୍ୟବହାର କରି କରାଯାଇଥିଲା |Cu Kα ବିକିରଣ ଏବଂ ଏକ ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ 1.54 of ସହିତ ଏକ XRD ସିଷ୍ଟମ ବ୍ୟବହାର କରି ପରିବର୍ତ୍ତିତ ପୃଷ୍ଠର ସ୍ଫଟିକ୍ ଏବଂ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଚିହ୍ନଟ କରାଯାଇଥିଲା |ଏକ ଷ୍ଟାଇଲସ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ମାପ କରାଯାଏ |ପରିବର୍ତ୍ତିତ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକର କଠିନତା ଗୁଣ ବିକର୍ସ ହୀରା ମାଇକ୍ରୋଏଣ୍ଟେଣ୍ଟେସନ୍ ଦ୍ୱାରା ମାପ କରାଯାଇଥିଲା |ପରିବର୍ତ୍ତିତ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକର ଥକ୍କା ଗୁଣ ଉପରେ ଭୂପୃଷ୍ଠ ରୁଗ୍ଣତାର ପ୍ରଭାବ ଏକ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ଉତ୍ପାଦିତ ତାପଜ ଥକ୍କା ପ୍ରଣାଳୀ ବ୍ୟବହାର କରି ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହା ଦେଖାଯାଇଛି ଯେ 500 nm ରୁ କମ୍ ଅଲ୍ଟ୍ରାଫାଇନ୍ ଆକାର ସହିତ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଶସ୍ୟ ପାଇବା ସମ୍ଭବ |35 ରୁ 150 µm ପରିସରର ଉନ୍ନତ ପୃଷ୍ଠର ଗଭୀରତା ଲେଜର ଚିକିତ୍ସିତ H13 ନମୁନାରେ ହାସଲ କରାଯାଇଥିଲା |ପରିବର୍ତ୍ତିତ H13 ପୃଷ୍ଠର ସ୍ଫଟିକତା ଯଥେଷ୍ଟ ହ୍ରାସ ପାଇଛି, ଯାହା ଲେଜର ଚିକିତ୍ସା ପରେ ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର ଅନିୟମିତ ବଣ୍ଟନ ସହିତ ଜଡିତ |H13 Ra ର ସର୍ବନିମ୍ନ ସଂଶୋଧିତ ହାରାହାରି ପୃଷ୍ଠଭୂମି ହେଉଛି 1.9 µm |ଅନ୍ୟ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଆବିଷ୍କାର ହେଉଛି ଯେ ପରିବର୍ତ୍ତିତ H13 ପୃଷ୍ଠର କଠିନତା ବିଭିନ୍ନ ଲେଜର ସେଟିଙ୍ଗରେ 728 ରୁ 905 HV0.1 ମଧ୍ୟରେ ରହିଥାଏ |ଲେଜର ପାରାମିଟରର ପ୍ରଭାବକୁ ଅଧିକ ବୁ understand ିବା ପାଇଁ ଥର୍ମାଲ୍ ସିମୁଲେସନ୍ ଫଳାଫଳ (ଗରମ ଏବଂ କୁଲିଂ ହାର) ଏବଂ କଠିନତା ଫଳାଫଳ ମଧ୍ୟରେ ଏକ ସମ୍ପର୍କ ସ୍ଥାପିତ ହେଲା |ପୋଷାକ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ଉତ୍ତାପ ରକ୍ଷାକାରୀ ଆବରଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ଭୂପୃଷ୍ଠ କଠିନ ପଦ୍ଧତିଗୁଡିକର ବିକାଶ ପାଇଁ ଏହି ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |
GAA ସ୍ଲିଓଟର ପାଇଁ ସାଧାରଣ କୋର ବିକାଶ ପାଇଁ କଠିନ କ୍ରୀଡା ବଲଗୁଡିକର ପାରାମିଟ୍ରିକ୍ ପ୍ରଭାବ ଗୁଣ |
ଏହି ଅଧ୍ୟୟନର ମୂଳ ଲକ୍ଷ୍ୟ ହେଉଛି ପ୍ରଭାବ ଉପରେ ସ୍ଲିଓଟର କୋରର ଗତିଶୀଳ ଆଚରଣକୁ ବର୍ଣ୍ଣିତ କରିବା |ବଲ୍ର ଭିସକୋଲେଷ୍ଟିକ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରଭାବ ବେଗ ପାଇଁ କରାଯାଇଥିଲା |ଆଧୁନିକ ପଲିମର କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ ଷ୍ଟ୍ରେନ୍ ହାର ପ୍ରତି ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ହୋଇଥିବାବେଳେ ପାରମ୍ପାରିକ ମଲ୍ଟି-କମ୍ପୋନେଣ୍ଟ୍ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ ଷ୍ଟ୍ରେନ୍ ନିର୍ଭରଶୀଳ |ଅଣନ ar ତିକ ଭିସକୋଲେଷ୍ଟିକ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ଦୁଇଟି କଠିନତା ମୂଲ୍ୟ ଦ୍ୱାରା ବ୍ୟାଖ୍ୟା କରାଯାଇଛି: ପ୍ରାରମ୍ଭିକ କଠିନତା ଏବଂ ବହୁଳ କଠିନତା |ଗତି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି ପାରମ୍ପାରିକ ବଲଗୁଡିକ ଆଧୁନିକ ବଲ ଅପେକ୍ଷା 2.5 ଗୁଣ କଠିନ ଅଟେ |ପାରମ୍ପାରିକ ବଲଗୁଡିକର କଠିନତାର ଦ୍ରୁତ ଗତିରେ ଆଧୁନିକ ବଲ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ ଅଣ-ର ar ଖ୍ୟ COR ବନାମ ବେଗରେ ପରିଣତ ହୁଏ |ଗତିଶୀଳ କଠିନତା ଫଳାଫଳଗୁଡିକ କ୍ୱାସୀ-ଷ୍ଟାଟିକ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ଏବଂ ବସନ୍ତ ସିଦ୍ଧାନ୍ତ ସମୀକରଣର ସୀମିତ ପ୍ରୟୋଗତା ଦର୍ଶାଏ |ଗୋଲାକାର ବିକୃତିର ଆଚରଣର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ମାଧ୍ୟାକର୍ଷଣ କେନ୍ଦ୍ରର ବିସ୍ଥାପନ ଏବଂ ବ୍ୟାସ ସଙ୍କୋଚନ ସମସ୍ତ ପ୍ରକାର କ୍ଷେତ୍ର ପାଇଁ ସ୍ଥିର ନୁହେଁ |ବ୍ୟାପକ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ, ବଲ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଉପରେ ଉତ୍ପାଦନ ଅବସ୍ଥାର ପ୍ରଭାବ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯାଇଥିଲା |ତାପମାତ୍ରା, ଚାପ ଏବଂ ବସ୍ତୁ ଗଠନର ଉତ୍ପାଦନ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ବଲ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଭିନ୍ନ ଥିଲା |ପଲିମରର କଠିନତା କଠିନତାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରେ କିନ୍ତୁ ଶକ୍ତି ବିସ୍ତାର ନୁହେଁ, କଠିନତା ବ the ଼ିବା ଦ୍ୱାରା ବଲ୍ର କଠିନତା ବ increases ିଥାଏ |ନ୍ୟୁକ୍ଲିଏଟିଙ୍ଗ୍ ଆଡିଭେଟ୍ସ ବଲ୍ ର ପୁନ act ସକ୍ରିୟତା ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ, ଯୋଗର ପରିମାଣ ବୃଦ୍ଧି ବଲ୍ର ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳତା ହ୍ରାସ କରିଥାଏ, କିନ୍ତୁ ଏହି ପ୍ରଭାବ ପଲିମର ଗ୍ରେଡ୍ ପ୍ରତି ସମ୍ବେଦନଶୀଳ |ପ୍ରଭାବରେ ବଲ୍ର ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ଅନୁକରଣ କରିବା ପାଇଁ ତିନୋଟି ଗାଣିତିକ ମଡେଲ ବ୍ୟବହାର କରି ସାଂଖ୍ୟିକ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରାଯାଇଥିଲା |ପ୍ରଥମ ମଡେଲ୍ ବଲ୍ର ଆଚରଣକୁ କେବଳ ସୀମିତ ପରିମାଣରେ ପୁନ oduc ପ୍ରକାଶ କରିବାକୁ ସକ୍ଷମ ବୋଲି ପ୍ରମାଣିତ ହୋଇଥିଲା, ଯଦିଓ ଏହା ପୂର୍ବରୁ ଅନ୍ୟ ପ୍ରକାରର ବଲରେ ସଫଳତାର ସହିତ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଦ୍ୱିତୀୟ ମଡେଲ୍ ବଲ୍ ପ୍ରଭାବ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ଏକ ଯୁକ୍ତିଯୁକ୍ତ ଉପସ୍ଥାପନା ଦେଖାଇଲା ଯାହା ସାଧାରଣତ tested ପରୀକ୍ଷିତ ସମସ୍ତ ବଲ୍ ପ୍ରକାର ପାଇଁ ପ୍ରଯୁଜ୍ୟ ଥିଲା, କିନ୍ତୁ ଫୋର୍ସ-ବିସ୍ଥାପନ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ପୂର୍ବାନୁମାନ ସଠିକତା ବୃହତ ଆକାରର କାର୍ଯ୍ୟକାରିତା ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ନଥିଲା |ତୃତୀୟ ମଡେଲ୍ ବଲ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ଅନୁକରଣ କରିବା ସମୟରେ ଯଥେଷ୍ଟ ଭଲ ସଠିକତା ଦେଖାଇଲା |ଏହି ମଡେଲ ପାଇଁ ମଡେଲ ଦ୍ୱାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ବଳ ମୂଲ୍ୟଗୁଡ଼ିକ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ତଥ୍ୟ ସହିତ 95% ସମାନ ଅଟେ |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ଦୁଇଟି ମୁଖ୍ୟ ଲକ୍ଷ୍ୟ ହାସଲ କଲା |ଗୋଟିଏ ହେଉଛି ଏକ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାତ୍ରା କ୍ୟାପିଲାରୀ ଭିସ୍କୋମିଟରର ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନ, ଏବଂ ଦ୍ୱିତୀୟଟି ହେଉଛି ଅର୍ଦ୍ଧ-କଠିନ ଧାତୁ ପ୍ରବାହ ଅନୁକରଣ ଏବଂ ତୁଳନାତ୍ମକ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟରେ ତଥ୍ୟ ପ୍ରଦାନ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରିବା |ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ତାପମାତ୍ରା ପାଇଁ ଏକ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ୟାପିଲାରୀ ଭିସ୍କୋମିଟର ନିର୍ମାଣ କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟବହୃତ ଶିଆର ହାରରେ ଅର୍ଦ୍ଧ-କଠିନ ଧାତୁର ସାନ୍ଦ୍ରତା ମାପିବା ପାଇଁ ଏହି ଉପକରଣ ବ୍ୟବହାର କରାଯିବ |କ୍ୟାପିଲାରୀ ଭିସକୋମିଟର ହେଉଛି ଏକକ ପଏଣ୍ଟ ସିଷ୍ଟମ ଯାହା କ୍ୟାପିଲାରୀ ଉପରେ ପ୍ରବାହ ଏବଂ ଚାପ ଡ୍ରପ ମାପ କରି ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ଗଣନା କରିପାରିବ, ଯେହେତୁ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଚାପ ହ୍ରାସ ସହିତ ସିଧାସଳଖ ଆନୁପାତିକ ଏବଂ ପ୍ରବାହର ବିପରୀତ ଆନୁପାତିକ |ଡିଜାଇନ୍ ମାନଦଣ୍ଡରେ 800ºC ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଭଲ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ତାପମାତ୍ରା, 10,000 s-1 ରୁ ଅଧିକ ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ଶିଅର୍ ହାର ଏବଂ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକତା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ଗଣନାକାରୀ ଫ୍ଲୁଇଡ୍ ଡାଇନାମିକ୍ସ (CFD) ପାଇଁ FLUENT ସଫ୍ଟୱେର୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ ଦୁଇ-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ଦୁଇ-ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଥିଓରିିକାଲ୍ ସମୟ-ନିର୍ଭରଶୀଳ ମଡେଲ୍ ବିକଶିତ କରାଯାଇଥିଲା |ଅର୍ଦ୍ଧ-କଠିନ ଧାତୁର ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ଆକଳନ କରିବା ପାଇଁ ଏହା ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି ଯେହେତୁ ସେମାନେ 0.075, 0.5 ଏବଂ 1 ମି / ସେକେଣ୍ଡର ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ବେଗରେ ଏକ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା କ୍ୟାପିଲାରୀ ଭିସ୍କୋମିଟର ଦେଇ ଗତି କରନ୍ତି |ଧାତବ କଠିନ (fs) ର ଏକ ଭଗ୍ନାଂଶର ପ୍ରଭାବ ମଧ୍ୟ 0.25 ରୁ 0.50 ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଇଥିଲା |ଫ୍ଲୁଏଣ୍ଟ୍ ମଡେଲର ବିକାଶ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ପାୱାର୍-ଲ ’ସାନ୍ଦ୍ରତା ସମୀକରଣ ପାଇଁ, ଏହି ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ଏବଂ ଫଳାଫଳର ସାନ୍ଦ୍ରତା ମଧ୍ୟରେ ଏକ ଦୃ strong ସମ୍ପର୍କକୁ ଲକ୍ଷ୍ୟ କରାଯାଇଥିଲା |
ଏହି କାଗଜ ଏକ ବ୍ୟାଚ୍ କମ୍ପୋଷ୍ଟିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଅଲ-ସିସି ମେଟାଲ୍ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ କମ୍ପୋଜିଟ୍ସ (MMC) ଉତ୍ପାଦନ ଉପରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟରଗୁଡିକର ପ୍ରଭାବ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରେ |ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିବା ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟରଗୁଡିକରେ ଷ୍ଟ୍ରାଇର ସ୍ପିଡ୍, ଷ୍ଟ୍ରାଇର ସମୟ, ଷ୍ଟ୍ରାଇର ଜ୍ୟାମିତି, ଷ୍ଟ୍ରାଇର ସ୍ଥିତି, ଧାତବ ତରଳ ତାପମାତ୍ରା (ସାନ୍ଦ୍ରତା) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ରୁମ୍ ତାପମାତ୍ରା (25 ± C), କମ୍ପ୍ୟୁଟର ସିମୁଲେସନ୍ ଏବଂ MMC ଅଲ-ସିସି ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଯାଞ୍ଚ ପରୀକ୍ଷଣରେ ଭିଜୁଆଲ୍ ସିମୁଲେସନ୍ କରାଯାଇଥିଲା |ଭିଜୁଆଲ୍ ଏବଂ କମ୍ପ୍ୟୁଟର ଅନୁକରଣରେ ଯଥାକ୍ରମେ ତରଳ ଏବଂ ଅର୍ଦ୍ଧ-କଠିନ ଆଲୁମିନିୟମ୍ ପ୍ରତିନିଧିତ୍ୱ କରିବାକୁ ଜଳ ଏବଂ ଗ୍ଲାଇସେରିନ୍ / ଜଳ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇଥିଲା |1, 300, 500, 800, ଏବଂ 1000 mPa s ର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ 50, 100, 150, 200, 250, ଏବଂ 300 rpm ର ଉତ୍ତେଜନା ହାର ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯାଇଥିଲା |ପ୍ରତି ଖଣ୍ଡରେ 10 ଟି ଗାଡ଼ି |% ସଶକ୍ତ SiC କଣିକା, ଆଲୁମିନିୟମ୍ MMK ରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିବା ପରି, ଭିଜୁଆଲାଇଜେସନ୍ ଏବଂ ଗଣନା ପରୀକ୍ଷଣରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ସ୍ୱଚ୍ଛ ଗ୍ଲାସ୍ ବିକରରେ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା |ଫ୍ଲୁଏଣ୍ଟ୍ (CFD ପ୍ରୋଗ୍ରାମ୍) ଏବଂ ଇଚ୍ଛାଧୀନ ମିକ୍ସସିମ୍ ପ୍ୟାକେଜ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଗଣନାକାରୀ ଅନୁକରଣ କରାଯାଇଥିଲା |ଏଥିରେ ଇଉଲେରିଆନ୍ (ଗ୍ରାନୁଲାର୍) ମଡେଲ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଉତ୍ପାଦନ ମାର୍ଗର 2D ଅକ୍ସିମେଟ୍ରିକ୍ ମଲ୍ଟିଫେଜ୍ ସମୟ-ନିର୍ଭରଶୀଳ ଅନୁକରଣ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |କଣିକା ବିଛିନ୍ନତା ସମୟର ନିର୍ଭରଶୀଳତା, ମିଶ୍ରିତ ଜ୍ୟାମିତି ଏବଂ ଷ୍ଟ୍ରାଇର ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ବେଗ ଉପରେ ସମୟ ଏବଂ ଭର୍ଟେକ୍ସ ଉଚ୍ଚତା ସ୍ଥିର ହୋଇଛି |ପ୍ୟାଡଲ୍ସରେ ° ସହିତ ଏକ ଷ୍ଟ୍ରାଇର ପାଇଁ, degrees ୦ ଡିଗ୍ରୀର ଏକ ପ୍ୟାଡଲ୍ କୋଣ ଶୀଘ୍ର କଣିକାର ଏକ ସମାନ ବିଚ୍ଛେଦ ପାଇବା ପାଇଁ ଅଧିକ ଉପଯୁକ୍ତ ବୋଲି ଜଣାପଡିଛି |ଏହି ପରୀକ୍ଷଣଗୁଡିକର ଫଳାଫଳରୁ ଜଣାପଡିଛି ଯେ SiC ର ସମାନ ବଣ୍ଟନ ପାଇବା ପାଇଁ ୱାଟର-ସିସି ସିଷ୍ଟମ ପାଇଁ ଉତ୍ତେଜନା ବେଗ 150 rpm ଏବଂ ଗ୍ଲାଇସେରୋଲ / ୱାଟର-ସିସି ସିଷ୍ଟମ ପାଇଁ 300 rpm ଥିଲା |ଏହା ଦେଖାଗଲା ଯେ 1 mPa · s (ତରଳ ଧାତୁ ପାଇଁ) ରୁ 300 mPa · କୁ (ସେମି-କଠିନ ଧାତୁ ପାଇଁ) ବୃଦ୍ଧି ହେବା SiC ର ବିଚ୍ଛେଦ ଏବଂ ଜମା ସମୟ ଉପରେ ବହୁତ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଲା |ତଥାପି, 300 mPa · s ରୁ 1000 mPa · s ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅଧିକ ବୃଦ୍ଧି ଏହି ସମୟରେ କମ୍ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟର ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଅଂଶ ଏହି ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଚିକିତ୍ସା ପଦ୍ଧତି ପାଇଁ ଏକ ଉତ୍ସର୍ଗୀକୃତ ଦ୍ରୁତ କଠିନ କାଷ୍ଟିଂ ମେସିନର ଡିଜାଇନ୍, ନିର୍ମାଣ ଏବଂ ବ valid ଧତା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ |ଏହି ମେସିନ୍ 60 ଡିଗ୍ରୀ କୋଣରେ ଚାରୋଟି ଫ୍ଲାଟ ବ୍ଲେଡ୍ ସହିତ ଏକ ଷ୍ଟ୍ରାଇରର୍ ଏବଂ ପ୍ରତିରୋଧକ ଉତ୍ତାପ ସହିତ ଏକ ଚୁଲା ଚାମ୍ବରରେ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ସଂସ୍ଥାପନରେ ଏକ ଆକ୍ଟୁଏଟର୍ ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ ହୋଇଛି ଯାହା ପ୍ରକ୍ରିୟାକୃତ ମିଶ୍ରଣକୁ ଶୀଘ୍ର ଲିଭାଇଥାଏ |ଏହି ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ଅଲ-ସିସି କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ସାଧାରଣତ ,, ଭିଜୁଆଲାଇଜେସନ୍, ଗଣନା ଏବଂ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳ ମଧ୍ୟରେ ଭଲ ଚୁକ୍ତି ମିଳିଲା |
ସେଠାରେ ଅନେକ ଭିନ୍ନ ଦ୍ରୁତ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପିଂ (ଆରପି) କ ques ଶଳ ଅଛି ଯାହା ମୁଖ୍ୟତ the ଗତ ଦଶନ୍ଧିରେ ବଡ଼ ଆକାରର ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ବିକଶିତ ହୋଇଛି |ବାଣିଜ୍ୟିକ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ ଦ୍ରୁତ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପ୍ ସିଷ୍ଟମ ଆଜି କାଗଜ, ମହମ, ହାଲୁକା ଉପଶମକାରୀ ରେସିନ୍, ପଲିମର ଏବଂ ଉପନ୍ୟାସ ଧାତୁ ପାଉଡର ବ୍ୟବହାର କରି ବିଭିନ୍ନ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବ୍ୟବହାର କରେ |ଏହି ପ୍ରୋଜେକ୍ଟରେ ଏକ ଦ୍ରୁତ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପିଂ ପଦ୍ଧତି, ଫ୍ୟୁଜଡ୍ ଡିପୋଜିସନ ମଡେଲିଂ, 1991 ରେ ପ୍ରଥମେ ବ୍ୟବସାୟିକ ହୋଇଥିଲା। ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ମହମ ବ୍ୟବହାର କରି ସର୍ଫେସ୍ କରି ମଡେଲିଂ ପାଇଁ ସିଷ୍ଟମର ଏକ ନୂତନ ସଂସ୍କରଣ ବିକଶିତ ଏବଂ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଏହି ପ୍ରୋଜେକ୍ଟ ସିଷ୍ଟମର ମ basic ଳିକ ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ମହମ ଜମା ପଦ୍ଧତିକୁ ବର୍ଣ୍ଣନା କରେ |ଉତ୍ତପ୍ତ ଅଗ୍ରଭାଗ ମାଧ୍ୟମରେ ପୂର୍ବ ନିର୍ଦ୍ଧାରିତ pattern ାଞ୍ଚାରେ ଏକ ପ୍ଲାଟଫର୍ମରେ ଅର୍ଦ୍ଧ-ତରଳ ପଦାର୍ଥକୁ ବାହାର କରି FDM ମେସିନ୍ଗୁଡ଼ିକ ଅଂଶ ସୃଷ୍ଟି କରେ |ଏକ କମ୍ପ୍ୟୁଟର ସିଷ୍ଟମ ଦ୍ୱାରା ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଏକ XY ଟେବୁଲ ଉପରେ ଏକ୍ସଟ୍ରୁଜନ୍ ନୋଜଲ୍ ଲଗାଯାଇଛି |ପ୍ଲଙ୍ଗର୍ ମେକାନିଜମ୍ ର ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ଏବଂ ଜମାକାରୀଙ୍କ ସ୍ଥିତି ସହିତ ସଠିକ୍ ମଡେଲଗୁଡିକ ଉତ୍ପାଦିତ ହୁଏ |2D ଏବଂ 3D ବସ୍ତୁ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ପାଇଁ ମହମର ଏକକ ସ୍ତର ପରସ୍ପର ଉପରେ ଷ୍ଟାକ୍ ହୋଇଛି |ମଡେଲଗୁଡିକର ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରିବା ପାଇଁ ମହମର ଗୁଣଗୁଡିକ ମଧ୍ୟ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରାଯାଇଛି |ଏଥିରେ ମହମର ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରିବର୍ତ୍ତନ ତାପମାତ୍ରା, ମହମର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ସମୟରେ ମହମ ଡ୍ରପ୍ ର ଆକାର ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
ବିଗତ ପାଞ୍ଚ ବର୍ଷ ମଧ୍ୟରେ, ସିଟି ୟୁନିଭରସିଟି ଡବଲିନ୍ ଡିଭିଜନ୍ ସାଇନ୍ସ କ୍ଲଷ୍ଟରର ଅନୁସନ୍ଧାନକାରୀ ଦଳ ଦୁଇଟି ଲେଜର ମାଇକ୍ରୋମାଚାଇନିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିଛନ୍ତି ଯାହା ପୁନ oduc ପ୍ରବୃତ୍ତ ମାଇକ୍ରୋନ-ସ୍କେଲ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ସହିତ ଚ୍ୟାନେଲ ଏବଂ ଭକ୍ସେଲ ସୃଷ୍ଟି କରିପାରିବ |ଟାର୍ଗେଟ ବାୟୋମୋଲକ୍ୟୁଲକୁ ଅଲଗା କରିବା ପାଇଁ କଷ୍ଟମ୍ ସାମଗ୍ରୀର ବ୍ୟବହାର ଉପରେ ଏହି କାର୍ଯ୍ୟର ଧ୍ୟାନ |ପ୍ରାଥମିକ କାର୍ଯ୍ୟ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ପୃଥକତା କ୍ଷମତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ କ୍ୟାପିଲାରୀ ମିଶ୍ରଣ ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଚ୍ୟାନେଲଗୁଡିକର ନୂତନ ମର୍ଫୋଲୋଜି ସୃଷ୍ଟି କରାଯାଇପାରିବ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଜ୍ୟାମିତି ଏବଂ ଚ୍ୟାନେଲଗୁଡ଼ିକୁ ଡିଜାଇନ୍ କରିବା ପାଇଁ ଉପଲବ୍ଧ ମାଇକ୍ରୋମାଚାଇନିଂ ଉପକରଣଗୁଡିକର ପ୍ରୟୋଗ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେବ ଯାହା ଜ bi ବ ପ୍ରଣାଳୀର ଉନ୍ନତ ପୃଥକତା ଏବଂ ଚରିତ୍ର ପ୍ରଦାନ କରିବ |ଏହି ସିଷ୍ଟମର ପ୍ରୟୋଗ ବାୟୋଡିଗ୍ନୋଷ୍ଟିକ୍ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ପାଇଁ ଲ୍ୟାବ୍-ଅନ୍-ଚିପ୍ ପଦ୍ଧତିକୁ ଅନୁସରଣ କରିବ |ଏହି ବିକଶିତ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବ୍ୟବହାର କରି ନିର୍ମିତ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ଏକ ଚିପ୍ରେ ପ୍ରକଳ୍ପର ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲୁଇଡିକ୍ ଲାବୋରେଟୋରୀରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେବ |ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପାରାମିଟର ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋ- ଏବଂ ନାନୋସ୍କାଲ୍ ଚ୍ୟାନେଲ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ମଧ୍ୟରେ ସିଧାସଳଖ ସମ୍ପର୍କ ଯୋଗାଇବା ପାଇଁ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଡିଜାଇନ୍, ଅପ୍ଟିମାଇଜେସନ୍ ଏବଂ ସିମୁଲେସନ୍ କ ques ଶଳ ବ୍ୟବହାର କରିବା ଏବଂ ଏହି ମାଇକ୍ରୋଟେକ୍ନୋଲୋଜିରେ ପୃଥକ ଚ୍ୟାନେଲଗୁଡ଼ିକର ଉନ୍ନତି ପାଇଁ ଏହି ସୂଚନା ବ୍ୟବହାର କରିବା ହେଉଛି ପ୍ରକଳ୍ପର ଲକ୍ଷ୍ୟ |କାର୍ଯ୍ୟର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ: ଚ୍ୟାନେଲ ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ପୃଥକ ବିଜ୍ଞାନରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ଭୂପୃଷ୍ଠ ମର୍ଫୋଲୋଜି;ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ଚିପ୍ସରେ ପମ୍ପିଂ ଏବଂ ନିଷ୍କାସନର ଏକମାତ୍ର ପର୍ଯ୍ୟାୟ;ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ଚିପ୍ସ ଉପରେ ମନୋନୀତ ଏବଂ ବାହାର କରାଯାଇଥିବା ଲକ୍ଷ୍ୟ ବାୟୋମୋଲ୍ୟୁକୁଲ୍ସର ପୃଥକତା |
ପେଲ୍ଟିଅର୍ ଆରେ ଏବଂ ଇନଫ୍ରାଡ୍ ଥର୍ମୋଗ୍ରାଫି ବ୍ୟବହାର କରି କ୍ୟାପିଲାରୀ LC ସ୍ତମ୍ଭ ସହିତ ସାମୟିକ ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ୍ ଏବଂ ଦ୍ରାଘିମା ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ଉତ୍ପାଦନ ଏବଂ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ |
କ୍ୟାପିଲାରୀ ସ୍ତମ୍ଭଗୁଡିକର ସଠିକ ତାପମାତ୍ରା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପାଇଁ ଏକ ନୂତନ ପ୍ରତ୍ୟକ୍ଷ ଯୋଗାଯୋଗ ପ୍ଲାଟଫର୍ମ କ୍ରମିକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ପୃଥକ ଭାବରେ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଥର୍ମୋଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ପେଲ୍ଟିଅର୍ କୋଷଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟବହାର ଉପରେ ଆଧାର କରି ବିକଶିତ ହୋଇଛି |ପ୍ଲାଟଫର୍ମ କ୍ୟାପିଲାରୀ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋ LC ସ୍ତମ୍ଭ ପାଇଁ ଦ୍ରୁତ ତାପମାତ୍ରା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରଦାନ କରେ ଏବଂ ସାମୟିକ ଏବଂ ସ୍ଥାନିକ ତାପମାତ୍ରାର ଏକକାଳୀନ ପ୍ରୋଗ୍ରାମିଂକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ |ପ୍ଲାଟଫର୍ମଟି 10 ରୁ 200 ° C ର ତାପମାତ୍ରା ପରିସର ମଧ୍ୟରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ ଏବଂ 10 ଟି ଆଲାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ପେଲ୍ଟିଅର୍ କୋଷଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ପ୍ରାୟ 400 ° C / ମିନିଟ୍ ରେମ୍ପ୍ ହାର ସହିତ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ |ଅନେକ ଅଣ-ମାନକ କ୍ୟାପିଲାରୀ-ଆଧାରିତ ମାପ ମୋଡ୍ ପାଇଁ ସିଷ୍ଟମକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରାଯାଇଛି, ଯେପରିକି ର line ଖ୍ୟ ଏବଂ ଅଣ-ର ar ଖ୍ୟ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ସହିତ ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟଗୁଡିକର ସିଧାସଳଖ ପ୍ରୟୋଗ, ଷ୍ଟାଟିକ୍ ସ୍ତମ୍ଭ ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ୍ ଏବଂ ସାମୟିକ ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ୍, ସଠିକ୍ ତାପମାତ୍ରା ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ୍, ପଲିମେରାଇଜଡ୍ କ୍ୟାପିଲାରୀ ମୋନୋଲିଥିକ୍ | ସ୍ଥିର ପର୍ଯ୍ୟାୟ, ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲଏଡିକ୍ ଚ୍ୟାନେଲଗୁଡିକରେ (ଏକ ଚିପ୍ ଉପରେ) ମୋନୋଲିଥିକ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଗଠନ |ଏହି ଉପକରଣକୁ ମାନକ ଏବଂ ସ୍ତମ୍ଭ କ୍ରୋମାଟୋଗ୍ରାଫି ସିଷ୍ଟମ ସହିତ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |
ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋହାଇଡ୍ରୋଡାଇନାମିକ୍ ଛୋଟ ଆନାଲିଟ୍ସର ପ୍ରାଧାନ୍ୟତା ପାଇଁ ଦୁଇ-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ପ୍ଲାନାର୍ ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲୁଇଡିକ୍ ଡିଭାଇସରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଉଛି |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋ-ହାଇଡ୍ରୋଡାଇନାମିକ୍ ଫୋକସିଂ (EHDF) ଏବଂ ପ୍ରାକ୍-ସମୃଦ୍ଧତା ଏବଂ ପ୍ରଜାତିର ପରିଚୟର ବିକାଶରେ ସହାୟତା କରିବାକୁ ଫୋଟନ୍ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ହାଇଡ୍ରୋଡାଇନାମିକ୍ ଏବଂ ବ electrical ଦୁତିକ ଶକ୍ତି ମଧ୍ୟରେ ସନ୍ତୁଳନ ପ୍ରତିଷ୍ଠା ଉପରେ ଆଧାର କରି EHDF ହେଉଛି ଏକ ଆୟନ-ସନ୍ତୁଳିତ ଧ୍ୟାନ ପ୍ରଣାଳୀ, ଯେଉଁଥିରେ ଆଗ୍ରହର ଆୟନ ସ୍ଥିର ହୋଇଯାଏ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନ ପାରମ୍ପାରିକ ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲ ସିଷ୍ଟମ ପରିବର୍ତ୍ତେ 2D ଖୋଲା 2D ଫ୍ଲାଟ ସ୍ପେସ୍ ପ୍ଲାନାର ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲାଇଡିକ୍ ଉପକରଣ ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ ଉପନ୍ୟାସ ପଦ୍ଧତି ଉପସ୍ଥାପନ କରେ |ଏହିପରି ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ବହୁ ପରିମାଣର ପଦାର୍ଥକୁ ପ୍ରାଧାନ୍ୟ ଦେଇପାରେ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନ କରିବା ଅପେକ୍ଷାକୃତ ସହଜ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନ COMSOL Multiphysics® 3.5a ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ ନୂତନ ବିକଶିତ ଅନୁକରଣର ଫଳାଫଳ ଉପସ୍ଥାପନ କରେ |ଚିହ୍ନିତ ପ୍ରବାହ ଜ୍ୟାମିତୀ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଏକାଗ୍ରତାର କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ ପରୀକ୍ଷା କରିବାକୁ ଏହି ମଡେଲଗୁଡିକର ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଫଳାଫଳ ସହିତ ତୁଳନା କରାଯାଇଥିଲା |ବିକଶିତ ସାଂଖ୍ୟିକ ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲାଇଡିକ୍ ମଡେଲକୁ ପୂର୍ବରୁ ପ୍ରକାଶିତ ପରୀକ୍ଷଣ ସହିତ ତୁଳନା କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଅତ୍ୟନ୍ତ ସୁସଙ୍ଗତ ଥିଲା |ଏହି ଅନୁକରଣଗୁଡିକ ଉପରେ ଆଧାର କରି, EHDF ପାଇଁ ସର୍ବୋତ୍କୃଷ୍ଟ ସର୍ତ୍ତ ଯୋଗାଇବା ପାଇଁ ଏକ ନୂତନ ପ୍ରକାରର ଜାହାଜ ଗବେଷଣା କରାଯାଇଥିଲା |ଚିପ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ମଡେଲର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଅତିକ୍ରମ କଲା |ଗଠନ ହୋଇଥିବା ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲୁଇଡିକ୍ ଚିପ୍ସରେ, ଏକ ନୂତନ ମୋଡ୍ ଦେଖାଗଲା, ଯାହାକୁ ଲାଟେରାଲ୍ EGDP କୁହାଯାଏ, ଯେତେବେଳେ ଅଧ୍ୟୟନ ଅଧୀନରେ ଥିବା ପଦାର୍ଥ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇଥିବା ଭୋଲଟେଜ୍ ଉପରେ p ର୍ଦ୍ଧ୍ୱରେ ଥାଏ |କାରଣ ଚିହ୍ନଟ ଏବଂ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ଏହିପରି ପୂର୍ବ-ସମୃଦ୍ଧତା ଏବଂ ପ୍ରଜାତି ଚିହ୍ନଟ ପ୍ରଣାଳୀର ପ୍ରମୁଖ ଦିଗ |ସଂଖ୍ୟା କିମ୍ବା ପ୍ରତୀକ ସହିତ ଅକ୍ଷର ମଧ୍ଯ ବ୍ୟବହାର କରି।ଆଲୋକ ବିସ୍ତାରର ବିକଶିତ ସାଂଖ୍ୟିକ ମଡେଲକୁ ସିଷ୍ଟମ ମାଧ୍ୟମରେ ଆଲୋକର ପ୍ରକୃତ ପଥ ଏବଂ ତୀବ୍ରତା ବଣ୍ଟନ ଦୃଷ୍ଟିରୁ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଭାବରେ ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଇଥିଲା, ଯାହା ଫଳାଫଳ ଦେଇଥିଲା ଯାହା ଫୋଟୋପଲିମେରାଇଜେସନ୍ ସିଷ୍ଟମକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରିବା ପାଇଁ ତଥା ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଚିହ୍ନଟ ପ୍ରଣାଳୀ ପାଇଁ ଆଗ୍ରହୀ ହୋଇପାରେ | କ୍ୟାପିଲାରୀ ବ୍ୟବହାର କରି |।
ଜ୍ୟାମିତି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି ଟେଲିକମ୍, ମାଇକ୍ରୋଫ୍ଲାଇଡିକ୍ସ, ମାଇକ୍ରୋସେନ୍ସର୍, ଡାଟା ଗୋଦାମ ଘର, ଗ୍ଲାସ୍ କଟିଙ୍ଗ ଏବଂ ସାଜସଜ୍ଜା ମାର୍କିଂରେ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, Nd: YVO4 ଏବଂ CO2 ଲେଜର ସିଷ୍ଟମର ପାରାମିଟରଗୁଡିକର ସେଟିଙ୍ଗ୍ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରର ଆକାର ଏବଂ ମର୍ଫୋଲୋଜି ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯାଇଥିଲା |ଲେଜର ସିଷ୍ଟମର ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିବା ପାରାମିଟରରେ ପାୱାର P, ପଲ୍ସ ପୁନରାବୃତ୍ତି ହାର PRF, ଡାଲି ସଂଖ୍ୟା N ଏବଂ ସ୍କାନ ହାର U. ମାପାଯାଇଥିବା ଆଉଟପୁଟ ପରିମାଣ ସମାନ ଭକ୍ସେଲ ବ୍ୟାସ ସହିତ ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲ ମୋଟେଇ, ଗଭୀରତା ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠ ରୁଗ୍ଣତା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ |ପଲିକାର୍ବୋନେଟ୍ ନମୁନା ମଧ୍ୟରେ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ଗଠନ ପାଇଁ ଏକ Nd: YVO4 ଲେଜର (2.5 W, 1.604 µm, 80 ns) ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ 3D ମାଇକ୍ରୋମାଚିଂ ସିଷ୍ଟମ୍ ବିକଶିତ କରାଯାଇଥିଲା |ମାଇକ୍ରୋଷ୍ଟ୍ରକ୍ଟ୍ରାଲ୍ ଭକ୍ସେଲଗୁଡିକର ବ୍ୟାସ 48 ରୁ 181 µm ଅଟେ |ସୋଡା-ଚୂନ ଗ୍ଲାସ, ଫ୍ୟୁଜଡ୍ ସିଲିକା ଏବଂ ନୀଳମଣି ନମୁନାରେ 5 ରୁ 10 µm ପରିସର ମଧ୍ୟରେ ଛୋଟ ଭକ୍ସେଲ ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ବ୍ୟବହାର କରି ସିଷ୍ଟମ୍ ସଠିକ୍ ଧ୍ୟାନ ପ୍ରଦାନ କରିଥାଏ |ସୋଡା-ଚୂନ ଗ୍ଲାସ ନମୁନାରେ ମାଇକ୍ରୋ ଚ୍ୟାନେଲ ତିଆରି କରିବା ପାଇଁ ଏକ CO2 ଲେଜର (1.5 kW, 10.6 µm, ସର୍ବନିମ୍ନ ପଲ୍ସ ଅବଧି 26 µs) ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲଗୁଡିକର କ୍ରସ୍-ସେକ୍ସନାଲ୍ ଆକୃତି ଭି-ଗ୍ରୋଭ୍, ୟୁ-ଗ୍ରୀଭ୍ ଏବଂ ଅତିରିକ୍ତ ଆବ୍ଲେସନ୍ ସାଇଟ୍ ମଧ୍ୟରେ ଭିନ୍ନ ଭିନ୍ନ ଥିଲା |ମାଇକ୍ରୋଚାନେଲଗୁଡିକର ଆକାର ମଧ୍ୟ ବହୁତ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ: ସ୍ଥାପନ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି 81 ରୁ 365 µm ଚଉଡା, 3 ରୁ 379 µm ଗଭୀରତା ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠର ରୁଗ୍ଣତା 2 ରୁ 13 µm ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ |ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପୃଷ୍ଠ ପ୍ରଣାଳୀ (RSM) ଏବଂ ପରୀକ୍ଷଣର ଡିଜାଇନ୍ (DOE) ବ୍ୟବହାର କରି ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପାରାମିଟର ଅନୁଯାୟୀ ମାଇକ୍ରୋ ଚ୍ୟାନେଲର ଆକାର ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା |ସଂଗୃହିତ ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଭଲ୍ୟୁମେଟ୍ରିକ୍ ଏବଂ ମାସ ଆବ୍ଲେସନ୍ ହାର ଉପରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟରଗୁଡିକର ପ୍ରଭାବ ଅଧ୍ୟୟନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଏହା ସହିତ, ପ୍ରକ୍ରିୟା ବୁ understand ିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରିବା ଏବଂ ପ୍ରକୃତ ଗଠନ ପୂର୍ବରୁ ଚ୍ୟାନେଲ ଟପୋଲୋଜିକୁ ପୂର୍ବାନୁମାନ କରିବାକୁ ଏକ ଥର୍ମାଲ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଗାଣିତିକ ମଡେଲ୍ ବିକଶିତ କରାଯାଇଛି |
ମେଟ୍ରୋଲୋଜି ଇଣ୍ଡଷ୍ଟ୍ରି ସର୍ବଦା ସଠିକ୍ ଏବଂ ଶୀଘ୍ର ଅନୁସନ୍ଧାନ ଏବଂ ଡିଜିଟାଇଜେସନ୍ କରିବା ପାଇଁ ନୂତନ ଉପାୟ ଖୋଜୁଛି, ମଡେଲିଂ କିମ୍ବା ଓଲଟା ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପାଇଁ ଭୂପୃଷ୍ଠର ରୁଗ୍ଣ ପାରାମିଟର ଗଣନା କରିବା ଏବଂ ପଏଣ୍ଟ କ୍ଲାଉଡ୍ ସୃଷ୍ଟି କରିବା (ଏକ ବା ଏକାଧିକ ପୃଷ୍ଠକୁ ବର୍ଣ୍ଣନା କରୁଥିବା ତିନି-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ ପଏଣ୍ଟ ସେଟ୍) |ସିଷ୍ଟମ୍ ବିଦ୍ୟମାନ ଅଛି, ଏବଂ ଗତ ଦଶନ୍ଧି ମଧ୍ୟରେ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଲୋକପ୍ରିୟତା ବ grown ଼ିଛି, କିନ୍ତୁ ଅଧିକାଂଶ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲର୍ କ୍ରୟ ଏବଂ ରକ୍ଷଣାବେକ୍ଷଣ ପାଇଁ ମହଙ୍ଗା |ସିଷ୍ଟମର ପ୍ରକାର ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲର୍ ଗୁଡିକ ଡିଜାଇନ୍ କରିବା ମଧ୍ୟ କଷ୍ଟସାଧ୍ୟ ହୋଇପାରେ ଏବଂ ସେମାନଙ୍କର ଭଗ୍ନତା ଅଧିକାଂଶ ଦୋକାନ କିମ୍ବା କାରଖାନା ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ହୋଇନପାରେ |ଏହି ପ୍ରୋଜେକ୍ଟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ତ୍ରିକୋଣଭୂମିର ନୀତି ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ ପ୍ରୋଫାଇଲର ବିକାଶକୁ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ |ବିକଶିତ ସିଷ୍ଟମରେ 200 x 120 ମିଲିମିଟର ସ୍କାନିଂ ଟେବୁଲ୍ କ୍ଷେତ୍ର ଏବଂ ଭୂଲମ୍ବ ମାପ ପରିସର 5 ମିମି ରହିଛି |ଲକ୍ଷ୍ୟ ପୃଷ୍ଠରୁ ଲେଜର ସେନସର ସ୍ଥିତି ମଧ୍ୟ 15 ମିଲିମିଟର ଦ୍ୱାରା ନିୟନ୍ତ୍ରିତ |ଉପଭୋକ୍ତା-ମନୋନୀତ ଅଂଶ ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠର ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ସ୍କାନିଂ ପାଇଁ ଏକ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରୋଗ୍ରାମ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହି ନୂତନ ସିଷ୍ଟମ୍ ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ସଠିକତା ଦ୍ୱାରା ବର୍ଣ୍ଣିତ |ସିଷ୍ଟମର ମାପାଯାଇଥିବା ସର୍ବାଧିକ କୋସାଇନ୍ ତ୍ରୁଟି ହେଉଛି 0.07 ° |ସିଷ୍ଟମର ଗତିଶୀଳ ସଠିକତା Z-axis (ଉଚ୍ଚତା) ରେ 2 µm ଏବଂ X ଏବଂ Y ଅକ୍ଷରେ ପ୍ରାୟ 10 µm ମାପ କରାଯାଏ |ସ୍କାନ୍ ହୋଇଥିବା ଅଂଶଗୁଡିକ (ମୁଦ୍ରା, ସ୍କ୍ରୁ, ୱାଶର୍ ଏବଂ ଫାଇବର ଲେନ୍ସ ମରିଯାଏ) ମଧ୍ୟରେ ଆକାର ଅନୁପାତ ଭଲ ଥିଲା |ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ସୀମିତତା ଏବଂ ସମ୍ଭାବ୍ୟ ସିଷ୍ଟମ୍ ଉନ୍ନତି ସହିତ ସିଷ୍ଟମ୍ ପରୀକ୍ଷା ଉପରେ ମଧ୍ୟ ଆଲୋଚନା କରାଯିବ |
ଏହି ପ୍ରକଳ୍ପର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହେଉଛି ଭୂପୃଷ୍ଠ ତ୍ରୁଟି ଯାଞ୍ଚ ପାଇଁ ଏକ ନୂତନ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ ଅନ୍ଲାଇନ୍ ସିଷ୍ଟମର ବିକାଶ ଏବଂ ବର୍ଣ୍ଣିତ କରିବା |କଣ୍ଟ୍ରୋଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ତ୍ରିକୋଣଭୂମିର ନୀତି ଉପରେ ଆଧାରିତ ଏବଂ ବିସ୍ତାର ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକର ତିନି-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଅଣ-ଯୋଗାଯୋଗ ପଦ୍ଧତି ପ୍ରଦାନ କରେ |ବିକାଶ ପ୍ରଣାଳୀର ମୁଖ୍ୟ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ଏକ ଡାୟୋଡ୍ ଲେଜର, ଏକ CCf15 CMOS କ୍ୟାମେରା ଏବଂ ଦୁଇଟି PC ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ସର୍ଭୋ ମୋଟର ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ନମୁନା ଗତି, ପ୍ରତିଛବି କ୍ୟାପଚର, ଏବଂ 3D ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ଲ୍ୟାବଭ୍ୟୁ ସଫ୍ଟୱେୟାରରେ ପ୍ରୋଗ୍ରାମ ହୋଇଛି |3D ସ୍କାନ୍ ହୋଇଥିବା ପୃଷ୍ଠାର ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ରେଣ୍ଡରିଂ ପାଇଁ ଏକ ପ୍ରୋଗ୍ରାମ୍ ସୃଷ୍ଟି କରି ଏବଂ ଆବଶ୍ୟକ ପୃଷ୍ଠର ରୁଗ୍ନେସ୍ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ଗଣନା କରି ଧରାଯାଇଥିବା ତଥ୍ୟ ଯାଞ୍ଚ କରିବା ସହଜ ହୋଇପାରିବ |ସର୍ଭୋ ମୋଟରଗୁଡିକ 0.05 µm ରେଜୋଲୁସନ ସହିତ X ଏବଂ Y ଦିଗରେ ନମୁନାକୁ ଘୁଞ୍ଚାଇବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ବିକଶିତ ଅଣ-ଯୋଗାଯୋଗ ଅନ୍ଲାଇନ୍ ପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ଦ୍ରୁତ ସ୍କାନିଂ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଯାଞ୍ଚ କରିପାରିବ |ବିକଶିତ ସିଷ୍ଟମ ସଫଳତାର ସହିତ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ 2D ପୃଷ୍ଠଭୂମି ପ୍ରୋଫାଇଲ୍, 3D ପୃଷ୍ଠଭୂମି ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ନମୁନା ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ଭୂପୃଷ୍ଠ ରୁଗ୍ନେସ୍ ମାପ ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଯାଞ୍ଚ ଉପକରଣରେ 12 x 12 mm ର XY ସ୍କାନିଂ କ୍ଷେତ୍ର ଅଛି |ବିକଶିତ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ସିଷ୍ଟମକୁ ବର୍ଣ୍ଣିତ ଏବଂ କାଲିବ୍ରେଟ୍ କରିବାକୁ, ସିଷ୍ଟମ୍ ଦ୍ୱାରା ମାପ କରାଯାଉଥିବା ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍କୁ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍, ବାଇନୋକୁଲାର ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍, AFM ଏବଂ ମିଟୁଟୋଇ ସର୍ଫେଷ୍ଟ -402 ବ୍ୟବହାର କରି ମାପ କରାଯାଉଥିବା ସମାନ ପୃଷ୍ଠ ସହିତ ତୁଳନା କରାଯାଇଥିଲା |
ଉତ୍ପାଦର ଗୁଣବତ୍ତା ଏବଂ ସେଥିରେ ବ୍ୟବହୃତ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡ଼ିକର ଆବଶ୍ୟକତା ଦିନକୁ ଦିନ ଚାହିଦା ବ .ୁଛି |ଅନେକ ଭିଜୁଆଲ୍ ଗୁଣବତ୍ତା ନିଶ୍ଚିତତା (QA) ସମସ୍ୟାର ସମାଧାନ ହେଉଛି ବାସ୍ତବ ସମୟ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଯାଞ୍ଚ ପ୍ରଣାଳୀର ବ୍ୟବହାର |ଏକ ଉଚ୍ଚ ଥ୍ରୋପପୁଟରେ ଏହା ଏକ ସମାନ ଉତ୍ପାଦ ଗୁଣ ଆବଶ୍ୟକ କରେ |ତେଣୁ, ସିଷ୍ଟମଗୁଡ଼ିକ ଆବଶ୍ୟକ ଯାହାକି 100% ବାସ୍ତବ ସମୟରେ ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ପୃଷ୍ଠଗୁଡ଼ିକୁ ପରୀକ୍ଷା କରିବାରେ ସକ୍ଷମ |ଏହି ଲକ୍ଷ୍ୟ ହାସଲ କରିବାକୁ, ଲେଜର ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଏବଂ କମ୍ପ୍ୟୁଟର ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରଯୁକ୍ତିର ମିଶ୍ରଣ ଏକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ଏକ ଉଚ୍ଚ ଗତି, ସ୍ୱଳ୍ପ ମୂଲ୍ୟ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ସଠିକତା ଅଣ-ଯୋଗାଯୋଗ ଲେଜର ସ୍କାନିଂ ସିଷ୍ଟମ୍ ବିକଶିତ ହେଲା |ଲେଜର ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ତ୍ରିକୋଣଭୂମିର ନୀତି ବ୍ୟବହାର କରି ସିଷ୍ଟମ୍ କଠିନ ଅସ୍ପଷ୍ଟ ବସ୍ତୁର ଘନତା ମାପ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ |ବିକଶିତ ପ୍ରଣାଳୀ ମାଇକ୍ରୋମିଟର ସ୍ତରରେ ମାପର ସଠିକତା ଏବଂ ପୁନ oduc ପ୍ରବୃତ୍ତି ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ |
ଏହି ପ୍ରକଳ୍ପର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହେଉଛି ଭୂପୃଷ୍ଠ ତ୍ରୁଟି ଚିହ୍ନଟ ପାଇଁ ଏକ ଲେଜର ଯାଞ୍ଚ ପ୍ରଣାଳୀର ପରିକଳ୍ପନା ଏବଂ ବିକାଶ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଗତିର ଇନଲାଇନ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଏହାର ସମ୍ଭାବନାକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିବା |ଚିହ୍ନଟ ପ୍ରଣାଳୀର ମୁଖ୍ୟ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ଏକ ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ଭାବରେ ଏକ ଲେଜର ଡାୟୋଡ୍ ମଡ୍ୟୁଲ୍, ଏକ ଚିହ୍ନଟ ୟୁନିଟ୍ ଭାବରେ CMOS ରାଣ୍ଡମ୍ ଆକସେସ୍ କ୍ୟାମେରା ଏବଂ ଏକ XYZ ଅନୁବାଦ ପର୍ଯ୍ୟାୟ |ବିଭିନ୍ନ ନମୁନା ପୃଷ୍ଠଗୁଡିକ ସ୍କାନ କରି ପ୍ରାପ୍ତ ତଥ୍ୟ ବିଶ୍ଳେଷଣ ପାଇଁ ଆଲଗୋରିଦମଗୁଡିକ ବିକଶିତ କରାଯାଇଥିଲା |କଣ୍ଟ୍ରୋଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ତ୍ରିକୋଣକରଣର ନୀତି ଉପରେ ଆଧାରିତ |ଲେଜର ବିମ୍ ନମୁନା ପୃଷ୍ଠରେ ଅତ୍ୟଧିକ ଘଟଣା ଅଟେ |ଭୂପୃଷ୍ଠ ଉଚ୍ଚତାର ପାର୍ଥକ୍ୟ ତା’ପରେ ନମୁନା ପୃଷ୍ଠ ଉପରେ ଲେଜର ସ୍ପଟ୍ ର ଭୂସମାନ୍ତର ଗତି ଭାବରେ ନିଆଯାଏ |ଏହା ତ୍ରିକୋଣୀୟ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରି ଉଚ୍ଚତା ମାପ ନେବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ |ବିକଶିତ ଚିହ୍ନଟ ପ୍ରଣାଳୀ ପ୍ରଥମେ ଏକ ରୂପାନ୍ତର କାରକ ପାଇବା ପାଇଁ କାଲିବ୍ରେଟ୍ ହୋଇଛି ଯାହା ସେନ୍ସର ଦ୍ୱାରା ମାପ କରାଯାଉଥିବା ବିନ୍ଦୁର ବିସ୍ଥାପନ ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠର ଭୂଲମ୍ବ ବିସ୍ଥାପନ ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କକୁ ପ୍ରତିଫଳିତ କରିବ |ନମୁନା ସାମଗ୍ରୀର ବିଭିନ୍ନ ପୃଷ୍ଠରେ ଏହି ପରୀକ୍ଷଣ କରାଯାଇଥିଲା: ପିତ୍ତଳ, ଆଲୁମିନିୟମ ଏବଂ ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ |ବିକଶିତ ସିଷ୍ଟମ୍ ଅପରେସନ୍ ସମୟରେ ଘଟୁଥିବା ତ୍ରୁଟିର ଏକ 3D ଟପୋଗ୍ରାଫିକ୍ ମାନଚିତ୍ରକୁ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ସୃଷ୍ଟି କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ଅଟେ |ପ୍ରାୟ 70 µm ର ଏକ ସ୍ପେସାଲ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ଏବଂ 60 µm ଗଭୀରତା ରେଜୋଲୁସନ ହାସଲ ହେଲା |ମାପ ହୋଇଥିବା ଦୂରତାର ସଠିକତା ମାପ କରି ସିଷ୍ଟମ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ମଧ୍ୟ ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଇଥାଏ |
ଭୂପୃଷ୍ଠର ତ୍ରୁଟି ଚିହ୍ନଟ କରିବା ପାଇଁ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଶିଳ୍ପ ଉତ୍ପାଦନ ପରିବେଶରେ ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ ଫାଇବର ଲେଜର ସ୍କାନିଂ ସିଷ୍ଟମ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଭୂପୃଷ୍ଠର ତ୍ରୁଟି ଚିହ୍ନଟ ପାଇଁ ଅଧିକ ଆଧୁନିକ ପଦ୍ଧତିରେ ଆଲୋକୀକରଣ ଏବଂ ଉପାଦାନ ଚିହ୍ନଟ ପାଇଁ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଫାଇବରର ବ୍ୟବହାର ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ଏହି ଡିସର୍ଟେସନ୍ ଏକ ନୂତନ ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ ଅପ୍ଟୋଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ସିଷ୍ଟମର ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ବିକାଶକୁ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ |ଏହି କାଗଜରେ, ଏଲଇଡିର ଦୁଇଟି ଉତ୍ସ, ଏଲଇଡି (ଆଲୋକ ନିର୍ଗତ ଡାୟୋଡ୍) ଏବଂ ଲେଜର ଡାୟୋଡ୍ ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଇଛି |ପାଞ୍ଚଟି ନିର୍ଗତ ଡାୟୋଡ୍ ଏବଂ ପାଞ୍ଚଟି ଗ୍ରହଣ କରୁଥିବା ଫୋଟୋଡିଏଡ୍ ପରସ୍ପର ବିପକ୍ଷରେ ଅବସ୍ଥିତ |ଡାଟା ସଂଗ୍ରହକୁ LabVIEW ସଫ୍ଟୱେର୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ PC ଦ୍ୱାରା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ଏବଂ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରାଯାଇଥାଏ |ଭୂପୃଷ୍ଠ ତ୍ରୁଟିର ପରିମାପ ମାପିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଯେପରିକି ଛିଦ୍ର (mm ମିମି), ଅନ୍ଧ ଛିଦ୍ର (mm ମିମି) ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀରେ ଖଣ୍ଡ |ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ଯେତେବେଳେ ସିଷ୍ଟମ୍ ମୁଖ୍ୟତ 2 2D ସ୍କାନିଂ ପାଇଁ ଉଦ୍ଦିଷ୍ଟ, ଏହା ଏକ ସୀମିତ 3D ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଭାବରେ ମଧ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟ କରିପାରିବ |ସିଷ୍ଟମ୍ ଏହା ମଧ୍ୟ ଦର୍ଶାଇଲା ଯେ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିବା ସମସ୍ତ ଧାତବ ସାମଗ୍ରୀ ଇନଫ୍ରାଡ୍ ସିଗ୍ନାଲ୍ ପ୍ରତିଫଳିତ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ଥିଲା |ପ୍ରବୃତ୍ତ ଫାଇବରର ଏକ ଆରେ ବ୍ୟବହାର କରି ଏକ ନୂତନ ବିକଶିତ ପଦ୍ଧତି ସର୍ବାଧିକ 100 µm (ଫାଇବର ବ୍ୟାସ ସଂଗ୍ରହ) ର ସିଷ୍ଟମ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ସହିତ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ରେଜୋଲୁସନ ହାସଲ କରିବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ |ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍, ଭୂପୃଷ୍ଠର ରୁଗ୍ଣତା, ଘନତା ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀର ପ୍ରତିଫଳନ ମାପିବା ପାଇଁ ସିଷ୍ଟମ୍ ସଫଳତାର ସହିତ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି |ଏହି ସିଷ୍ଟମ ସହିତ ଆଲୁମିନିୟମ, ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ, ପିତ୍ତଳ, ତମ୍ବା, ଟଫନୋଲ ଏବଂ ପଲିକାର୍ବୋନେଟ ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇପାରିବ |ଏହି ନୂତନ ସିଷ୍ଟମର ସୁବିଧାଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ଶୀଘ୍ର ଚିହ୍ନଟ, କମ୍ ମୂଲ୍ୟ, ଛୋଟ ଆକାର, ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ ଏବଂ ନମନୀୟତା |
ନୂତନ ପରିବେଶ ସେନସର ଟେକ୍ନୋଲୋଜିକୁ ଏକୀକରଣ ଏବଂ ନିୟୋଜନ କରିବା ପାଇଁ ନୂତନ ସିଷ୍ଟମଗୁଡିକର ପରିକଳ୍ପନା, ନିର୍ମାଣ ଏବଂ ପରୀକ୍ଷଣ |ବିଶେଷତ fa ଫେକାଲ୍ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ ମନିଟରିଂ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ |
ଶକ୍ତି ଯୋଗାଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ସିଲିକନ୍ ସୋଲାର PV ପ୍ୟାନେଲଗୁଡିକର ମାଇକ୍ରୋ-ନାନୋ ସଂରଚନାକୁ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବା |
ଆଜି ବିଶ୍ୱ ସମାଜ ସମ୍ମୁଖୀନ ହେଉଥିବା ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଆହ୍ is ାନ ହେଉଛି ନିରନ୍ତର ଶକ୍ତି ଯୋଗାଣ |ସମାଜ ପାଇଁ ଅକ୍ଷୟ ଶକ୍ତି ଉତ୍ସ ଉପରେ ଅଧିକ ନିର୍ଭର କରିବା ଆରମ୍ଭ କରିବାର ସମୟ ଆସିଛି |ସୂର୍ଯ୍ୟ ପୃଥିବୀକୁ ମାଗଣା ଶକ୍ତି ଯୋଗାଇଥାଏ, କିନ୍ତୁ ବିଦ୍ୟୁତ୍ ଆକାରରେ ଏହି ଶକ୍ତି ବ୍ୟବହାର କରିବାର ଆଧୁନିକ ପଦ୍ଧତିଗୁଡ଼ିକର କିଛି ସୀମା ଅଛି |ଫୋଟୋଭୋଲ୍ଟିକ୍ କୋଷଗୁଡ଼ିକ କ୍ଷେତ୍ରରେ, ମୁଖ୍ୟ ସମସ୍ୟା ହେଉଛି ସ ar ର ଶକ୍ତି ସଂଗ୍ରହର ପର୍ଯ୍ୟାପ୍ତ ଦକ୍ଷତା |ଲେଜର ମାଇକ୍ରୋମାଚାଇନିଂ ସାଧାରଣତ phot ଫୋଟୋଭୋଲ୍ଟିକ୍ ସକ୍ରିୟ ସ୍ତର ମଧ୍ୟରେ ଗ୍ଲାସ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍, ହାଇଡ୍ରୋଜେନେଟେଡ୍ ସିଲିକନ୍ ଏବଂ ଜିଙ୍କ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସ୍ତର ମଧ୍ୟରେ ଆନ୍ତ c- ସଂଯୋଗ ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଏହା ମଧ୍ୟ ଜଣା ଯେ ଏକ ସ ar ର କୋଷର ଭୂପୃଷ୍ଠକୁ ବୃଦ୍ଧି କରି ଅଧିକ ଶକ୍ତି ମିଳିପାରିବ, ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ ମାଇକ୍ରୋମାଚିନ୍ ଦ୍ୱାରା |ଏହା ଦେଖାଯାଇଛି ଯେ ନାନୋସ୍କାଲ୍ ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ବିବରଣୀ ସ ar ର କୋଷଗୁଡ଼ିକର ଶକ୍ତି ଅବଶୋଷଣ ଦକ୍ଷତା ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଯୋଗାଇବା ପାଇଁ ମାଇକ୍ରୋ-, ନାନୋ- ଏବଂ ମେସୋସ୍କାଲ୍ ସ ar ର କୋଷ ସଂରଚନାକୁ ଆଡାପ୍ଟିଂ କରିବାର ଲାଭ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିବା ଏହି କାଗଜର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ |ଏହିପରି ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ଏବଂ ନାନୋଷ୍ଟ୍ରକଚରର ଟେକ୍ନୋଲୋଜିକାଲ୍ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବା ଦ୍ୱାରା ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟପୋଲୋଜି ଉପରେ ସେମାନଙ୍କର ପ୍ରଭାବ ଅଧ୍ୟୟନ କରିବା ସମ୍ଭବ ହେବ |ବ elect ଦ୍ୟୁତିକ ଚୁମ୍ବକୀୟ ଆଲୋକର ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଭାବରେ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ସ୍ତରର ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସିଲେ ସେମାନେ ଉତ୍ପାଦନ କରୁଥିବା ଶକ୍ତି ପାଇଁ କୋଷଗୁଡିକ ପରୀକ୍ଷା କରାଯିବ |କୋଷ ଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଗଠନ ମଧ୍ୟରେ ଏକ ପ୍ରତ୍ୟକ୍ଷ ସମ୍ପର୍କ ସ୍ଥାପିତ ହେବ |
ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସରେ ଗଠନମୂଳକ ସାମଗ୍ରୀର ଭୂମିକା ପାଇଁ ଧାତୁ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ କମ୍ପୋଜିଟ୍ସ (MMCs) ଶୀଘ୍ର ପ୍ରଧାନ ପ୍ରାର୍ଥୀ ହେବାକୁ ଯାଉଛି |ଆଲୁମିନିୟମ୍ (ଅଲ୍) ଏବଂ ତମ୍ବା (Cu) ସେମାନଙ୍କର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ଗୁଣ (ଯଥା ନିମ୍ନ ତାପଜ ବିସ୍ତାର କୋଏଫିସିଣ୍ଟେଣ୍ଟ୍ (CTE), ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ଚାଳନା) ଏବଂ ଉନ୍ନତ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ (ଯଥା ଉଚ୍ଚ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଶକ୍ତି, ଉନ୍ନତ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା) କାରଣରୁ SiC ସହିତ ଦୃ ced ହେଲା |ପୋଷାକ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ମଡ୍ୟୁଲସ୍ ପାଇଁ ଏହା ବିଭିନ୍ନ ଶିଳ୍ପରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ସମ୍ପ୍ରତି, ଏହି ଉଚ୍ଚ ସିରାମିକ୍ MMC ଗୁଡିକ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ପ୍ୟାକେଜରେ ତାପମାତ୍ରା ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଆଉ ଏକ ଧାରା ହୋଇପାରିଛି |ସାଧାରଣତ power, ପାୱାର୍ ଡିଭାଇସ୍ ପ୍ୟାକେଜ୍ ଗୁଡିକରେ, ଆଲୁମିନିୟମ୍ (ଅଲ୍) କିମ୍ବା ତମ୍ବା (କ୍ୟୁ) ଏକ ହିଟ୍ସିଙ୍କ୍ କିମ୍ବା ବେସ୍ ପ୍ଲେଟ୍ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଯାହା ଚିପ୍ ଏବଂ ଆନୁଷଙ୍ଗିକ ପିନ ସଂରଚନାକୁ ନେଇଥାଏ |ସେରାମିକ୍ ଏବଂ ଆଲୁମିନିୟମ୍ କିମ୍ବା ତମ୍ବା ମଧ୍ୟରେ ଥର୍ମାଲ୍ ବିସ୍ତାରର କୋଏଫିସିଏଣ୍ଟ୍ (CTE) ର ବୃହତ ପାର୍ଥକ୍ୟ ଅସୁବିଧାଜନକ କାରଣ ଏହା ପ୍ୟାକେଜ୍ ର ବିଶ୍ୱସନୀୟତାକୁ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସହିତ ସଂଲଗ୍ନ ହୋଇଥିବା ସେରାମିକ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟର ଆକାରକୁ ମଧ୍ୟ ସୀମିତ କରିଥାଏ |
ଏହି ଅଭାବକୁ ଦୃଷ୍ଟିରେ ରଖି ବର୍ତ୍ତମାନ ନୂତନ ସାମଗ୍ରୀର ବିକାଶ, ଅନୁସନ୍ଧାନ ଏବଂ ବର୍ଣ୍ଣିତ ହେବା ସମ୍ଭବ, ଯାହା ତାପଜ ଉନ୍ନତ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଏହି ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରେ |ଉନ୍ନତ ଥର୍ମାଲ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ଏବଂ ଥର୍ମାଲ୍ ବିସ୍ତାରର ଗୁଣବତ୍ତା (CTE) ଗୁଣ ସହିତ, MMC CuSiC ଏବଂ AlSiC ବର୍ତ୍ତମାନ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ପ୍ୟାକେଜିଂ ପାଇଁ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ସମାଧାନ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ଏହି MMC ଗୁଡ଼ିକର ଅନନ୍ୟ ଥର୍ମୋଫିଜିକାଲ୍ ଗୁଣ ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ପ୍ୟାକେଜ୍ ର ତାପଜ ପରିଚାଳନା ପାଇଁ ସେମାନଙ୍କର ସମ୍ଭାବ୍ୟ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକର ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିବ |
ତ carbon ଳ କମ୍ପାନୀଗୁଡିକ ଅଙ୍ଗାରକାମ୍ଳ ଏବଂ ନିମ୍ନ ମିଶ୍ରିତ ଷ୍ଟିଲରେ ନିର୍ମିତ ତ oil ଳ ଏବଂ ଗ୍ୟାସ ଶିଳ୍ପ ପ୍ରଣାଳୀର ୱେଲଡିଂ ଜୋନ୍ରେ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ କ୍ଷୟ ଅନୁଭବ କରନ୍ତି |CO2 ଧାରଣ କରିଥିବା ପରିବେଶରେ, କ୍ଷତିକାରକ କ୍ଷତି ସାଧାରଣତ various ବିଭିନ୍ନ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ପ୍ରତିରକ୍ଷା କ୍ଷତିକାରକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଶକ୍ତିରେ ଭିନ୍ନତା ପାଇଁ ଦାୟୀ |ୱେଲ୍ଡ ଧାତୁ (WM) ଏବଂ ଉତ୍ତାପ ପ୍ରଭାବିତ ଜୋନ୍ (HAZ) ରେ ସ୍ଥାନୀୟ କ୍ଷୟ ମୁଖ୍ୟତ gal ମିଶ୍ରିତ ମିଶ୍ରଣ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରର ପାର୍ଥକ୍ୟ ହେତୁ ଗାଲ୍ଭାନିକ୍ ପ୍ରଭାବ କାରଣରୁ ହୋଇଥାଏ |ମୃଦୁ ଷ୍ଟିଲ୍ ୱେଲଡେଡ୍ ଗଣ୍ଠିର କ୍ଷୟ ଆଚରଣ ଉପରେ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରର ପ୍ରଭାବ ବୁ to ିବା ପାଇଁ ବେସ୍ ଧାତୁ (PM), WM, ଏବଂ HAZ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରାଲ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯାଇଥିଲା |କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାରେ (20 ± 2 ° C) ଏବଂ pH 4.0 ± 0.3 ରେ ଡିଓକ୍ସାଇଜେନେଟେଡ୍ ଅବସ୍ଥାରେ CO2 ସହିତ ପରିପୂର୍ଣ୍ଣ 3.5% NaCl ଦ୍ରବଣରେ କ୍ଷତିକାରକ ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା |ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା, ପୋଟେଣ୍ଟିଓଡାଇନାମିକ୍ ସ୍କାନିଂ ଏବଂ ର line ଖ୍ୟ ପୋଲାରାଇଜେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ, ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି ବ୍ୟବହାର କରି ସାଧାରଣ ଧାତବ ଚରିତ୍ରକରଣ ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବା ପାଇଁ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରି କ୍ଷୟ ଆଚରଣର ଚରିତ୍ରକରଣ କରାଯାଇଥିଲା |ଚିହ୍ନଟ ହୋଇଥିବା ମୁଖ୍ୟ ମର୍ଫୋଲୋଜିକାଲ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ଏସିକୁଲାର୍ ଫେରିଟ୍, ରଖାଯାଇଥିବା ଆଷ୍ଟେନାଇଟ୍ ଏବଂ WM ରେ ମାର୍ଟେନ୍ସାଇଟିକ୍-ବାଇନିଟିକ୍ ଗଠନ |ସେଗୁଡିକ HAZ ରେ କମ୍ ସାଧାରଣ |PM, VM ଏବଂ HAZ ରେ ଭିନ୍ନ ଭିନ୍ନ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ଆଚରଣ ଏବଂ କ୍ଷୟ ହାର ମିଳିଲା |
ଏହି ପ୍ରକଳ୍ପ ଦ୍ୱାରା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କାର୍ଯ୍ୟ ଜଳମଗ୍ନ ପମ୍ପଗୁଡ଼ିକର ବ electrical ଦୁତିକ ଦକ୍ଷତା ବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ଲକ୍ଷ୍ୟ ରଖାଯାଇଛି |ଏହି ଦିଗରେ ଆଗକୁ ବ pump ିବା ପାଇଁ ପମ୍ପ ଇଣ୍ଡଷ୍ଟ୍ରିର ଚାହିଦା ନୂତନ EU ନିୟମ ପ୍ରଣୟନ ସହିତ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଛି ଯାହା ନୂତନ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ସ୍ତରର ଦକ୍ଷତା ହାସଲ କରିବାକୁ ଶିଳ୍ପକୁ ଆବଶ୍ୟକ କରେ |ଏହି କାଗଜ ପମ୍ପ ସୋଲେନଏଡ ଅଞ୍ଚଳକୁ ଥଣ୍ଡା କରିବା ପାଇଁ ଏକ କୁଲିଂ ଜ୍ୟାକେଟର ବ୍ୟବହାରକୁ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରିଥାଏ ଏବଂ ଡିଜାଇନ୍ ଉନ୍ନତି ପାଇଁ ପ୍ରସ୍ତାବ ଦେଇଥାଏ |ବିଶେଷ ଭାବରେ, ଅପରେଟିଂ ପମ୍ପଗୁଡ଼ିକର କୁଲିଂ ଜ୍ୟାକେଟରେ ତରଳ ପ୍ରବାହ ଏବଂ ଉତ୍ତାପ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ବର୍ଣ୍ଣିତ |ଜ୍ୟାକେଟ୍ ଡିଜାଇନ୍ରେ ଉନ୍ନତି ପମ୍ପ ମୋଟର କ୍ଷେତ୍ରକୁ ଉତ୍ତମ ଉତ୍ତାପ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ଯୋଗାଇବ ଯାହା ଦ୍ ind ାରା ପ୍ରେରିତ ଡ୍ରାଗ୍ ହ୍ରାସ ହେବା ସହିତ ଉନ୍ନତ ପମ୍ପ ଦକ୍ଷତା ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ପାଇଁ, ବିଦ୍ୟମାନ 250 m3 ଟେଷ୍ଟ ଟ୍ୟାଙ୍କରେ ଏକ ଶୁଖିଲା ଗର୍ତ୍ତ ସ୍ଥାପିତ ପମ୍ପ ପରୀକ୍ଷା ବ୍ୟବସ୍ଥା ଯୋଗ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହା ଫ୍ଲୋ ଫିଲ୍ଡର ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ କ୍ୟାମେରା ଟ୍ରାକିଂ ଏବଂ ପମ୍ପ କେସିଙ୍ଗର ଏକ ଥର୍ମାଲ୍ ଇମେଜ୍ ଅନୁମତି ଦିଏ |CFD ବିଶ୍ଳେଷଣ ଦ୍ valid ାରା ବ ated ଧ ହୋଇଥିବା ଫ୍ଲୋ ଫିଲ୍ଡ ପରୀକ୍ଷଣ, ପରୀକ୍ଷଣ ଏବଂ ବିକଳ୍ପ ଡିଜାଇନର ତୁଳନାକୁ ଅପରେଟିଂ ତାପମାତ୍ରାକୁ ଯଥାସମ୍ଭବ କମ୍ ରଖିବା ପାଇଁ ଅନୁମତି ଦିଏ |M60-4 ପୋଲ ପମ୍ପର ମୂଳ ଡିଜାଇନ୍ ସର୍ବାଧିକ ବାହ୍ୟ ପମ୍ପ କେସିଙ୍ଗ୍ ତାପମାତ୍ରା 45 ° C ଏବଂ ସର୍ବାଧିକ ଷ୍ଟାଟର୍ ତାପମାତ୍ରା 90 ° C ପ୍ରତିରୋଧ କରିଥିଲା |ବିଭିନ୍ନ ମଡେଲ ଡିଜାଇନର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଦର୍ଶାଏ ଯେ କେଉଁ ଡିଜାଇନ୍ ଅଧିକ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ପ୍ରଣାଳୀ ପାଇଁ ଅଧିକ ଉପଯୋଗୀ ଏବଂ କେଉଁଟି ବ୍ୟବହାର କରାଯିବା ଉଚିତ୍ ନୁହେଁ |ବିଶେଷ ଭାବରେ, ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ କୁଲିଂ କୋଇଲର ଡିଜାଇନ୍ରେ ମୂଳ ଡିଜାଇନ୍ ଉପରେ କ improvement ଣସି ଉନ୍ନତି ନାହିଁ |ଚାରିରୁ ଆଠ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଇମ୍ପେଲର୍ ବ୍ଲେଡ୍ ସଂଖ୍ୟା ବୃଦ୍ଧି କରିବା ଦ୍ୱାରା କେସିଙ୍ଗରେ ମାପ କରାଯାଉଥିବା ଅପରେଟିଂ ତାପମାତ୍ରା ସାତ ଡିଗ୍ରୀ ସେଲସିୟସ୍ ହ୍ରାସ ପାଇଲା |
ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା ଏବଂ ଧାତୁ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣରେ ଏକ୍ସପୋଜର ସମୟ ହ୍ରାସ ହେତୁ ଭୂପୃଷ୍ଠ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ହୁଏ |ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟର ଏବଂ ଶୀତଳତା ହାରର ସର୍ବୋତ୍କୃଷ୍ଟ ମିଶ୍ରଣ ପାଇବା ଶସ୍ୟର ସଂରଚନାକୁ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବା ଏବଂ ବସ୍ତୁ ପୃଷ୍ଠଭୂମିରେ ଟ୍ରିବୋଲୋଜିକାଲ୍ ଗୁଣଗୁଡିକର ଉନ୍ନତି ପାଇଁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନର ମୂଳ ଲକ୍ଷ୍ୟ ଥିଲା ବାଣିଜ୍ୟିକ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ ଧାତବ ଜ om ବ ପଦାର୍ଥର ଟ୍ରାଇବୋଲୋଜିକାଲ୍ ଗୁଣ ଉପରେ ଦ୍ରୁତ ପଲ୍ସଡ୍ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣର ପ୍ରଭାବ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିବା |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ AISI 316L ଏବଂ Ti-6Al-4V ର ଲେଜର ଭୂପୃଷ୍ଠ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପାଇଁ ଉତ୍ସର୍ଗୀକୃତ |ବିଭିନ୍ନ ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟରର ପ୍ରଭାବ ଏବଂ ଫଳାଫଳ ପୃଷ୍ଠ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ଏବଂ ମର୍ଫୋଲୋଜିର ଅଧ୍ୟୟନ ପାଇଁ 1.5 କିଲୋୱାଟ ପଲ୍ସଡ୍ CO2 ଲେଜର ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଏକ ସିଲିଣ୍ଡ୍ରିକ୍ ନମୁନା ବ୍ୟବହାର କରି ଲେଜର ବିକିରଣ ଦିଗକୁ ଘୂର୍ଣ୍ଣିତ ପର୍ପେଣ୍ଡିକୁଲାର, ଲେଜର ବିକିରଣ ତୀବ୍ରତା, ଏକ୍ସପୋଜର ସମୟ, ଶକ୍ତି ଫ୍ଲକ୍ସ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ନାଡ ପ୍ରସ୍ଥ ଭିନ୍ନ ଥିଲା |SEM, EDX, ଛୁଞ୍ଚିର ରୁଗ୍ନେସ୍ ମାପ ଏବଂ XRD ବିଶ୍ଳେଷଣ ବ୍ୟବହାର କରି ଚରିତ୍ରକରଣ କରାଯାଇଥିଲା |ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ପାରାମିଟର ସେଟ୍ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଭୂପୃଷ୍ଠ ତାପମାତ୍ରା ପୂର୍ବାନୁମାନ ମଡେଲ୍ ମଧ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟକାରୀ କରାଯାଇଥିଲା |ତାପରେ ତରଳାଯାଇଥିବା ଇସ୍ପାତର ଲେଜର ଚିକିତ୍ସା ପାଇଁ ଅନେକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପାରାମିଟର ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବା ପାଇଁ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମ୍ୟାପିଂ କରାଯାଇଥିଲା |ଆଲୋକୀକରଣ, ଏକ୍ସପୋଜର ସମୟ, ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଗଭୀରତା ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୃତ ନମୁନାର ରୁଗ୍ଣତା ମଧ୍ୟରେ ଏକ ଦୃ strong ସମ୍ପର୍କ ଅଛି |ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରାଲ୍ ପରିବର୍ତ୍ତନଗୁଡ଼ିକର ଗଭୀରତା ଏବଂ ରୁଗ୍ଣତା ଅଧିକ ଏକ୍ସପୋଜର ସ୍ତର ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର ସମୟ ସହିତ ଜଡିତ |ଚିକିତ୍ସିତ ଅଞ୍ଚଳର ରୁଗ୍ଣତା ଏବଂ ଗଭୀରତାକୁ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରି, ଶକ୍ତି ଫ୍ଲୁଏନ୍ସ ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠର ତାପମାତ୍ରା ମଡେଲଗୁଡିକ ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଘଟିବାର ତରଳିବାର ଡିଗ୍ରୀ ପୂର୍ବାନୁମାନ କରିବାକୁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଲେଜର ବିମ୍ ର ପାରସ୍ପରିକ ସମୟ ବ increases ିବା ସହିତ ଷ୍ଟିଲର ଭୂପୃଷ୍ଠ ରୁଗ୍ଣତା ବିଭିନ୍ନ ଅଧ୍ୟୟନ କରୁଥିବା ନାଡିର ଶକ୍ତି ସ୍ତର ପାଇଁ ବ increases ିଥାଏ |ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର ସାଧାରଣ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ୍ ବଜାୟ ରଖିବା ପାଇଁ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଗଠନ ପରିଲକ୍ଷିତ ହୋଇଥିବାବେଳେ ଲେଜର ଚିକିତ୍ସିତ ଅଞ୍ଚଳରେ ଶସ୍ୟ ଆଭିମୁଖ୍ୟରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପରିଲକ୍ଷିତ ହୋଇଥିଲା |
ଟିସୁ ଚାପ ଆଚରଣର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଏବଂ ଚରିତ୍ର ଏବଂ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଡିଜାଇନ୍ ପାଇଁ ଏହାର ପ୍ରଭାବ |
ଏହି ପ୍ରୋଜେକ୍ଟରେ, ବିଭିନ୍ନ ଭିନ୍ନ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଜ୍ୟାମିତିକୁ ବିକଶିତ କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ହାଡ ଗଠନର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ, ଟିସୁ ବିକାଶରେ ସେମାନଙ୍କର ଭୂମିକା ଏବଂ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡରେ ଚାପ ଏବଂ ଷ୍ଟ୍ରେନର ସର୍ବାଧିକ ବଣ୍ଟନ ବୁ understand ିବା ପାଇଁ ସୀମିତ ଉପାଦାନ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରାଯାଇଥିଲା |CAD ସହିତ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ସଂରଚନା ବ୍ୟତୀତ ଟ୍ରାବେକୁଲାର ହାଡ ନମୁନାଗୁଡିକର ଗଣିତ ଟମୋଗ୍ରାଫି (CT) ସ୍କାନ ସଂଗ୍ରହ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହି ଡିଜାଇନ୍ଗୁଡ଼ିକ ଆପଣଙ୍କୁ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପ୍ ସୃଷ୍ଟି ଏବଂ ପରୀକ୍ଷା କରିବା ସହିତ ଏହି ଡିଜାଇନ୍ଗୁଡ଼ିକର FEM ସଂପାଦନ କରିବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ |ମାଇକ୍ରୋଡେଫର୍ମେସନ୍ ର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ମାପଗୁଡିକ ଫେମେରାଲ୍ ହେଡ୍ ହାଡର ଗଠନ ହୋଇଥିବା ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଏବଂ ଟ୍ରାବେକୁଲାର୍ ନମୁନା ଉପରେ କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ଏହି ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ସମାନ ସଂରଚନା ପାଇଁ FEA ଦ୍ୱାରା ପ୍ରାପ୍ତ ହୋଇଥିବା ତୁଳନା କରାଯାଇଥିଲା |ଏହା ବିଶ୍ believed ାସ କରାଯାଏ ଯେ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଗୁଡିକ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ପୋର ଆକୃତି (ଗଠନ), ପୋର ଆକାର (120, 340 ଏବଂ 600 µm) ଏବଂ ଲୋଡିଂ ଅବସ୍ଥା ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ (ବ୍ଲକ୍ ଲୋଡିଂ ସହିତ କିମ୍ବା ବିନା) |ଚାପ ବଣ୍ଟନ ଉପରେ ଏହାର ପ୍ରଭାବକୁ ବିସ୍ତୃତ ଭାବରେ ଅଧ୍ୟୟନ କରିବା ପାଇଁ ଏହି ପାରାମିଟରଗୁଡିକର ପରିବର୍ତ୍ତନଗୁଡିକ 8 mm3, 22.7 mm3 ଏବଂ 1000 mm3 ର ଖୋଲା framework ାଞ୍ଚା ପାଇଁ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରାଯାଇଥିଲା |ପରୀକ୍ଷଣ ଏବଂ ଅନୁକରଣର ଫଳାଫଳ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ଚାପର ବଣ୍ଟନରେ ସଂରଚନାର ଜ୍ୟାମିତିକ ଡିଜାଇନ୍ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରିଥାଏ ଏବଂ ହାଡର ପୁନ en ନିର୍ମାଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ framework ାଞ୍ଚା ଡିଜାଇନର ମହାନ ସମ୍ଭାବନାକୁ ଆଲୋକିତ କରିଥାଏ |ସାଧାରଣତ ,, ସାମଗ୍ରିକ ସର୍ବାଧିକ ଚାପ ସ୍ତର ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବାରେ ପୋରୋସିଟି ସ୍ତର ଅପେକ୍ଷା ଖୋଲା ଆକାର ଅଧିକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ତଥାପି, ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଗଠନଗୁଡ଼ିକର ଅଷ୍ଟିଓକଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବାରେ ପୋରୋସିଟିର ସ୍ତର ମଧ୍ୟ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ଯେହେତୁ ପୋରୋସିଟି ସ୍ତର 30% ରୁ 70% କୁ ବ increases େ, ସମାନ ଚାପ ଆକାର ପାଇଁ ସର୍ବାଧିକ ଚାପ ମୂଲ୍ୟ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଥାଏ |
ସ୍କାଫୋଲ୍ଡର ଖୋଲା ଆକାର ମଧ୍ୟ ତିଆରି ପଦ୍ଧତି ପାଇଁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ଦ୍ରୁତ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପିଂର ସମସ୍ତ ଆଧୁନିକ ପଦ୍ଧତିଗୁଡ଼ିକର କିଛି ସୀମା ଅଛି |ପାରମ୍ପାରିକ ଗଠନ ଅଧିକ ବହୁମୁଖୀ ହୋଇଥିବାବେଳେ, ଅଧିକ ଜଟିଳ ଏବଂ ଛୋଟ ଡିଜାଇନ୍ ଗଠନ କରିବା ପ୍ରାୟତ impossible ଅସମ୍ଭବ |ଏହି ଟେକ୍ନୋଲୋଜିଗୁଡିକ ମଧ୍ୟରୁ ଅଧିକାଂଶ ବର୍ତ୍ତମାନ 500 µm ତଳେ ସ୍ଥିର ଭାବରେ ପୋର ଉତ୍ପାଦନ କରିବାରେ ଅସମର୍ଥ |ଏହିପରି, ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ 600 µm ଆକାରର ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ବର୍ତ୍ତମାନର ଦ୍ରୁତ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରଯୁକ୍ତିର ଉତ୍ପାଦନ କ୍ଷମତା ପାଇଁ ଅଧିକ ପ୍ରାସଙ୍ଗିକ |ଉପସ୍ଥାପିତ ଷୋଡଶାଳିଆ ଗଠନ, ଯଦିଓ କେବଳ ଗୋଟିଏ ଦିଗରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ, କ୍ୟୁବ୍ ଏବଂ ତ୍ରିରଙ୍ଗା ଉପରେ ଆଧାରିତ ସଂରଚନା ତୁଳନାରେ ସବୁଠାରୁ ଆନିସୋଟ୍ରୋପିକ୍ ଗଠନ ହେବ |ଷୋଡଶାଳିଆ ଗଠନ ତୁଳନାରେ କ୍ୟୁବିକ୍ ଏବଂ ତ୍ରିକୋଣୀୟ ସଂରଚନା ଅପେକ୍ଷାକୃତ ଆଇସୋଟ୍ରୋପିକ୍ |ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ସ୍କାଫୋଲ୍ଡର ଅଷ୍ଟିଓକଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ବିଷୟରେ ବିଚାର କରିବାବେଳେ ଆନିସୋଟ୍ରପି ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |ଚାପ ବଣ୍ଟନ ଏବଂ ଆପେଚର ଅବସ୍ଥାନ ପୁନ od ନିର୍ମାଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥାଏ ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ଲୋଡିଂ ଅବସ୍ଥା ସର୍ବାଧିକ ଚାପ ମୂଲ୍ୟ ଏବଂ ଏହାର ଅବସ୍ଥାନ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିପାରିବ |ମୁଖ୍ୟ ଲୋଡିଂ ଦିଗଗୁଡିକ କୋଷର ଆକାର ଏବଂ ବଣ୍ଟନକୁ ପ୍ରୋତ୍ସାହିତ କରିବା ଉଚିତ ଯାହା କୋଷଗୁଡ଼ିକୁ ବୃହତ ଖାଲରେ ବ grow ିବାକୁ ଏବଂ ପୁଷ୍ଟିକର ଖାଦ୍ୟ ଏବଂ ନିର୍ମାଣ ସାମଗ୍ରୀ ଯୋଗାଇବାକୁ ଅନୁମତି ଦେବା ଉଚିତ |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟର ଅନ୍ୟ ଏକ କ interesting ତୁହଳପୂର୍ଣ୍ଣ ସିଦ୍ଧାନ୍ତ, ସ୍ତମ୍ଭର କ୍ରସ୍ ବିଭାଗରେ ଚାପର ବଣ୍ଟନକୁ ପରୀକ୍ଷା କରି ଏହା ହେଉଛି ଯେ କେନ୍ଦ୍ର ତୁଳନାରେ ସ୍ତମ୍ଭ ପୃଷ୍ଠରେ ଅଧିକ ଚାପ ମୂଲ୍ୟ ରେକର୍ଡ କରାଯାଇଛି |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ଏହା ଦର୍ଶାଯାଇଥିଲା ଯେ ଗର୍ତ୍ତର ଆକାର, ପୋରୋସିଟି ସ୍ତର, ଏବଂ ଲୋଡିଂ ପଦ୍ଧତି structure ାଞ୍ଚାରେ ଅନୁଭୂତ ହୋଇଥିବା ଚାପ ସ୍ତର ସହିତ ନିବିଡ ଭାବରେ ଜଡିତ |ଏହି ଅନୁସନ୍ଧାନଗୁଡିକ ଷ୍ଟ୍ରଟ୍ ସଂରଚନା ସୃଷ୍ଟି କରିବାର ସମ୍ଭାବନାକୁ ଦର୍ଶାଏ ଯେଉଁଥିରେ ଷ୍ଟ୍ରଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଚାପ ସ୍ତର ଅଧିକ ପରିମାଣରେ ଭିନ୍ନ ହୋଇପାରେ, ଯାହା କୋଷ ସଂଲଗ୍ନ ଏବଂ ବୃଦ୍ଧିକୁ ପ୍ରୋତ୍ସାହନ ଦେଇପାରେ |
ସିନ୍ଥେଟିକ୍ ହାଡର ପ୍ରତିସ୍ଥାପନ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡଗୁଡିକ ବ୍ୟକ୍ତିଗତ ଭାବରେ ସଜାଇବା, ସୀମିତ ଦାତା ଉପଲବ୍ଧତାକୁ ଦୂର କରିବା ଏବଂ ଓସୋଏଣ୍ଟିଗ୍ରେସନ୍ରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ସୁଯୋଗ ପ୍ରଦାନ କରେ |ଅସ୍ଥି ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଉଚ୍ଚମାନର ଗ୍ରାଫ୍ଟ ଯୋଗାଇ ଏହି ସମସ୍ୟାର ସମାଧାନ କରିବାକୁ ଲକ୍ଷ୍ୟ ରଖିଛି ଯାହା ବହୁ ପରିମାଣରେ ଯୋଗାଇ ଦିଆଯାଇପାରେ |ଏହି ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକରେ, ଉଭୟ ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଏବଂ ବାହ୍ୟ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଜ୍ୟାମିତିର ମହତ୍ importance ରହିଛି, କାରଣ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ, ବିସ୍ତାର ଯୋଗ୍ୟତା ଏବଂ କୋଷ ବିସ୍ତାର ଉପରେ ଏହାର ମହତ୍ impact ପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରଭାବ ପଡିଥାଏ |ଦ୍ରୁତ ପ୍ରୋଟୋଟାଇପିଂ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଏବଂ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ ଜ୍ୟାମିତି ସହିତ ଅଣ-ମାନକ ସାମଗ୍ରୀର ବ୍ୟବହାରକୁ ଅନୁମତି ଦେଇଥାଏ, ଯାହା ଉଚ୍ଚ ସଠିକତା ସହିତ ନିର୍ମିତ |ଏହି କାଗଜ ବାୟୋକମ୍ପାଟିବଲ୍ କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ଫସଫେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ବ୍ୟବହାର କରି କଙ୍କାଳ ସ୍କାଫୋଲ୍ଡର ଜଟିଳ ଜ୍ୟାମିତିକୁ ତିଆରି କରିବା ପାଇଁ 3D ପ୍ରିଣ୍ଟିଂ କ ques ଶଳର କ୍ଷମତା ଅନୁସନ୍ଧାନ କରେ |ମାଲିକାନା ସାମଗ୍ରୀର ପ୍ରାଥମିକ ଅଧ୍ୟୟନ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ପୂର୍ବାନୁମାନିତ ଦିଗନ୍ତ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଆଚରଣ ହାସଲ କରାଯାଇପାରିବ |ନିର୍ମିତ ନମୁନାଗୁଡ଼ିକର ଦିଗନ୍ତ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଗୁଡିକର ପ୍ରକୃତ ମାପ, ସୀମିତ ଉପାଦାନ ବିଶ୍ଳେଷଣ (FEM) ର ଫଳାଫଳ ସହିତ ସମାନ ଧାରା ଦେଖାଇଲା |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ଏକ ବାୟୋକମ୍ପାଟିବଲ୍ କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ଫସଫେଟ୍ ସିମେଣ୍ଟରୁ ଟିସୁ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଜ୍ୟାମିତି ସ୍କାଫୋଲ୍ଡ ଗଠନ ପାଇଁ 3D ପ୍ରିଣ୍ଟିଙ୍ଗର ସମ୍ଭାବ୍ୟତାକୁ ମଧ୍ୟ ଦର୍ଶାଏ |କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ଫସଫେଟ୍ ଏବଂ କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇଡ୍ ର ଏକ ମିଶ୍ରିତ ମିଶ୍ରଣକୁ ନେଇ ଏକ ପାଉଡର ସ୍ତରରେ ଡିସୋଡିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ଫସଫେଟ୍ ର ଏକ ଜଳୀୟ ସମାଧାନ ସହିତ ମୁଦ୍ରଣ କରି the ାଞ୍ଚାଗୁଡ଼ିକ ତିଆରି କରାଯାଇଥିଲା |ଓଦା ରାସାୟନିକ ଜମା ପ୍ରତିକ୍ରିୟା 3D ପ୍ରିଣ୍ଟରର ପାଉଡର ବେଡରେ ହୁଏ |ଉତ୍ପାଦିତ କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ଫସଫେଟ୍ ସିମେଣ୍ଟ (ସିପିସି) ର ଭଲ୍ୟୁମେଟ୍ରିକ୍ ସଙ୍କୋଚନର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ମାପିବା ପାଇଁ କଠିନ ନମୁନା ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହିପରି ଉତ୍ପାଦିତ ଅଂଶଗୁଡ଼ିକର ହାରାହାରି ମଡ୍ୟୁଲସ୍ 3.59 MPa ଏବଂ ହାରାହାରି ସଙ୍କୋଚନ ଶକ୍ତି 0.147 MPa ଥିଲା |ସଙ୍କୋଚନ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକ (E = 9.15 MPa, σt = 0.483 MPa) ରେ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ବୃଦ୍ଧି ଘଟାଏ, କିନ୍ତୁ ପଦାର୍ଥର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ହ୍ରାସ କରେ |ସିନ୍ଟରିଂର ପରିଣାମ ସ୍ୱରୂପ, କ୍ୟାଲସିୟମ୍ ଫସଫେଟ୍ ସିମେଣ୍ଟ β- ଟ୍ରାଇକାଲସିୟମ୍ ଫସଫେଟ୍ (β-TCP) ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିପାଟାଇଟ୍ (HA) ରେ କ୍ଷୟ ହୁଏ, ଯାହା ଥର୍ମୋଗ୍ରାଭିମେଟ୍ରିକ୍ ଏବଂ ଡିଫେରିଏଲ୍ ଥର୍ମାଲ୍ ଆନାଲିସିସ୍ (TGA / DTA) ଏବଂ ଏକ୍ସ-ରେ ଡିଫ୍ରାକ୍ସନ୍ ଆନାଲିସିସ୍ ତଥ୍ୟ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରମାଣିତ ହୁଏ | XRD) |ଅତ୍ୟଧିକ ଲୋଡ୍ ହୋଇଥିବା ପ୍ରତିରୋପଣ ପାଇଁ ଗୁଣଗୁଡିକ ପର୍ଯ୍ୟାପ୍ତ ନୁହେଁ, ଯେଉଁଠାରେ ଆବଶ୍ୟକ ଶକ୍ତି 1.5 ରୁ 150 MPa, ଏବଂ ସଙ୍କୋଚନକାରୀ ଦୃ id ତା 10 MPa ରୁ ଅଧିକ |ତଥାପି, ପରବର୍ତ୍ତୀ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ, ଯେପରିକି ବାୟୋଡିଗ୍ରେଡେବଲ୍ ପଲିମର ସହିତ ଅନୁପ୍ରବେଶ, ଏହି ସଂରଚନାଗୁଡ଼ିକୁ ଷ୍ଟେଣ୍ଟ ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ କରିପାରେ |
ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ: ମୃତ୍ତିକା ଯାନ୍ତ୍ରୀକ ଅନୁସନ୍ଧାନରୁ ଜଣାପଡିଛି ଯେ ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ସରେ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇଥିବା କମ୍ପନ ଅଧିକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ କଣିକା ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ଏବଂ ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ ଉପରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରିବା ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ଶକ୍ତି ହ୍ରାସ କରିଥାଏ |ଆମର ଲକ୍ଷ୍ୟ ଥିଲା ହାଡର ପ୍ରଭାବ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ କମ୍ପନର ପ୍ରଭାବ ପାଇଁ ଏକ ପଦ୍ଧତି ବିକାଶ କରିବା ଏବଂ ପ୍ରଭାବିତ ଗ୍ରାଫ୍ଟର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ଉପରେ ଏହାର ପ୍ରଭାବକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିବା |
ପ୍ରଥମ ପର୍ଯ୍ୟାୟ: ନୋଭିଓମାଗସ୍ ହାଡ ମିଲ୍ ବ୍ୟବହାର କରି 80 ମୁଣ୍ଡର ବୋଭାଇନ୍ ଫେମୁର ମିଲିଂ |ଏହା ପରେ ଗ୍ରାଫ୍ଟଗୁଡିକ ଏକ ସି ieve ା ଟ୍ରେରେ ଏକ ପଲ୍ସଡ୍ ସାଲାଇନ୍ ୱାଶ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଧୋଇଗଲା |ଏକ ଭାଇବ୍ରୋ-ଇଫେକ୍ଟ ଡିଭାଇସ୍ ବିକଶିତ ହୋଇଥିଲା, ଦୁଇଟି 15 ଭି ଡିସି ମୋଟର ସହିତ ଏକ ଧାତୁ ସିଲିଣ୍ଡର ଭିତରେ ସ୍ଥିର ହୋଇଥିବା ଅଜବ ଓଜନ ସହିତ ସଜ୍ଜିତ |ଏକ ହାଡକୁ ଆଘାତ କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ପୁନ oduc ପ୍ରକାଶ କରିବାକୁ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଉଚ୍ଚତାରୁ 72 ଥର ଏହା ଉପରେ ଏକ ଓଜନ ପକାନ୍ତୁ |କମ୍ପନ ଚ୍ୟାମ୍ବରରେ ସ୍ଥାପିତ ଏକ ଆକ୍ସିଲେରୋମିଟର ସହିତ ମାପ କରାଯାଉଥିବା କମ୍ପନ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ପରିସର ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା |ପ୍ରତ୍ୟେକ ଶିଅର ପରୀକ୍ଷା ପରେ ଚାରୋଟି ଭିନ୍ନ ସାଧାରଣ ଭାରରେ ପୁନରାବୃତ୍ତି କରାଯାଇଥିଲା |ପ୍ରତ୍ୟେକ ପରୀକ୍ଷା ପାଇଁ ମୋହର-କୁଲମ୍ବ ବିଫଳତା ଏନଭଲ୍ସ ନିର୍ମାଣ କରାଯାଇଥିଲା, ଯେଉଁଠାରୁ ଶିଅର ଶକ୍ତି ଏବଂ ଅବରୋଧ ମୂଲ୍ୟ ଉତ୍ପନ୍ନ ହୋଇଥିଲା |
ଦ୍ୱିତୀୟ ପର୍ଯ୍ୟାୟ: ସର୍ଜିକାଲ୍ ସେଟିଂରେ ସମ୍ମୁଖୀନ ହୋଇଥିବା ସମୃଦ୍ଧ ପରିବେଶକୁ ନକଲ କରିବା ପାଇଁ ରକ୍ତ ଯୋଗ କରି ପରୀକ୍ଷଣକୁ ପୁନରାବୃତ୍ତି କରନ୍ତୁ |
ପ୍ରଥମ ପର୍ଯ୍ୟାୟ: କମ୍ପନ୍ର ସମସ୍ତ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସିରେ ବର୍ଦ୍ଧିତ କମ୍ପନ ସହିତ ଗ୍ରାଫ୍ଟଗୁଡିକ କମ୍ପନ ବିନା ପ୍ରଭାବ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ ଶିଅର ଶକ୍ତି ଦେଖାଇଲା |60 Hz ରେ କମ୍ପନ ସର୍ବାଧିକ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥିଲା ଏବଂ ମହତ୍ .ପୂର୍ଣ୍ଣ ଥିଲା |
ଦ୍ୱିତୀୟ ପର୍ଯ୍ୟାୟ: ସାଚୁରେଟେଡ୍ ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ ଗୁଡିକରେ ଅତିରିକ୍ତ ସ୍ପନ୍ଦନ ପ୍ରଭାବ ସହିତ ଗ୍ରାଫ୍ଟିଙ୍ଗ୍ କମ୍ପନ ବିନା ପ୍ରଭାବ ଅପେକ୍ଷା ସମସ୍ତ ସାଧାରଣ ସଙ୍କୋଚନକାରୀ ଭାର ପାଇଁ କମ୍ ଶିଅର୍ ଶକ୍ତି ଦେଖାଇଲା |
ସିଦ୍ଧାନ୍ତ: ପ୍ରତିରୋପିତ ହାଡର ପ୍ରତିରୋପଣ ପାଇଁ ସିଭିଲ୍ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂର ନୀତି ପ୍ରଯୁଜ୍ୟ |ଶୁଖିଲା ଏଗ୍ରିଗେଟରେ, କମ୍ପନ ଯୋଗ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରଭାବ କଣିକାର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣରେ ଉନ୍ନତି ହୋଇପାରେ |ଆମ ସିଷ୍ଟମରେ, ସର୍ବୋଚ୍ଚ କମ୍ପନ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ହେଉଛି 60 Hz |ସାଚୁରେଟେଡ୍ ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ ଗୁଡିକରେ, କମ୍ପନର ବୃଦ୍ଧି ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ ର ଶିଅର୍ ଶକ୍ତି ଉପରେ ପ୍ରତିକୂଳ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |ଏହାକୁ ତରଳ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ୱାରା ବ୍ୟାଖ୍ୟା କରାଯାଇପାରେ |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ଥିଲା ଏକ ସିଷ୍ଟମ ଡିଜାଇନ୍, ନିର୍ମାଣ ଏବଂ ପରୀକ୍ଷଣ ଯାହାକି ଏହି ପରିବର୍ତ୍ତନଗୁଡିକର ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରିବାର କ୍ଷମତାକୁ ଆକଳନ କରିବା ପାଇଁ ଏହା ଉପରେ ଠିଆ ହୋଇଥିବା ବିଷୟଗୁଡିକୁ ବିଚଳିତ କରିପାରେ |ଏହା ଉପରେ ଯେଉଁ ବ୍ୟକ୍ତି ଛିଡ଼ା ହୋଇଛି ଏବଂ ତାପରେ ଏହାକୁ ଏକ ଭୂସମାନ୍ତର ଅବସ୍ଥାରେ ଫେରାଇ ଦେଇ ଏହା କରାଯାଇପାରିବ |ଏଥିରୁ ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବା ସମ୍ଭବ ଯେ ବିଷୟଗୁଡ଼ିକ ସନ୍ତୁଳନର ସ୍ଥିତି ବଜାୟ ରଖିବାରେ ସକ୍ଷମ ହୋଇଥିଲେ ଏବଂ ଏହି ସନ୍ତୁଳନର ସ୍ଥିତିକୁ ପୁନ restore ସ୍ଥାପନ କରିବାକୁ କେତେ ସମୟ ଲାଗିଲା |ଏହି ସନ୍ତୁଳନର ଅବସ୍ଥା ବିଷୟର ପୋଷ୍ଟାଲ୍ ପ୍ରଭାବ ମାପ କରି ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯିବ |ସେମାନଙ୍କର ପ୍ରାକୃତିକ ପୋଷ୍ଟାଲ୍ ସ୍ way େ ଏକ ପାଦ ଚାପ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ପ୍ୟାନେଲ୍ ସହିତ ମାପ କରାଯାଇଥିଲା ଯେତେବେଳେ ପରୀକ୍ଷା ସମୟରେ କେତେ ଗତି ଥିଲା ତାହା ସ୍ଥିର କରିବାକୁ |ଏହି ବ୍ୟବସ୍ଥା ବର୍ତ୍ତମାନ ବ୍ୟବସାୟିକ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ ଅପେକ୍ଷା ଅଧିକ ବହୁମୁଖୀ ଏବଂ ସୁଲଭ ମୂଲ୍ୟରେ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଛି କାରଣ ଏହି ମେସିନ୍ ଗବେଷଣା ପାଇଁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ହୋଇଥିବାବେଳେ, ଅଧିକ ମୂଲ୍ୟ ହେତୁ ସେଗୁଡିକ ବର୍ତ୍ତମାନ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେଉନାହିଁ |ଏହି ଆର୍ଟିକିଲରେ ଉପସ୍ଥାପିତ ହୋଇଥିବା ନୂତନ ବିକଶିତ ପ୍ରଣାଳୀ 100 କିଲୋଗ୍ରାମ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଓଜନ ବିଶିଷ୍ଟ ବସ୍ତୁଗୁଡ଼ିକୁ ଘୁଞ୍ଚାଇବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଏବଂ ଶାରୀରିକ ବିଜ୍ଞାନରେ six ଟି ଲାବୋରେଟୋରୀ ପରୀକ୍ଷଣ ଛାତ୍ରମାନଙ୍କ ପାଇଁ ଶିକ୍ଷଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ପରିକଳ୍ପନା କରାଯାଇଥିଲା |ଏହି ପରୀକ୍ଷଣଗୁଡିକ ପାଇଁ ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ଯନ୍ତ୍ର ସ୍ଥାପନ ଏବଂ ସୃଷ୍ଟି କରି ଏହା ହାସଲ ହୁଏ |ପାରମ୍ପାରିକ ଲାବୋରେଟୋରୀ ଶିକ୍ଷାଦାନ ପ୍ରଣାଳୀ ସହିତ ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ଯନ୍ତ୍ରର ବ୍ୟବହାରକୁ ସିଧାସଳଖ ତୁଳନା କରାଯାଏ ଏବଂ ଉଭୟ ପଦ୍ଧତିର ବିକାଶ ପାଇଁ ଆଧାର ଉପରେ ଆଲୋଚନା କରାଯାଇଛି |ଏହି କାର୍ଯ୍ୟ ସହିତ ଜଡିତ ସମାନ ପ୍ରୋଜେକ୍ଟରେ କମ୍ପ୍ୟୁଟର-ସହାୟକ ଶିକ୍ଷଣ (ସିବିଏଲ୍) ବ୍ୟବହାର କରି ପୂର୍ବ କାର୍ଯ୍ୟ ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ଯନ୍ତ୍ରର କିଛି ଲାଭକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା, ବିଶେଷକରି ଛାତ୍ରମାନଙ୍କର ଆଗ୍ରହ, ସ୍ମୃତିର ସଂରକ୍ଷଣ, ବୁ rehens ାମଣା ଏବଂ ଶେଷରେ ଲ୍ୟାବ୍ ରିପୋର୍ଟିଂ ସହିତ ଜଡିତ |।ସମ୍ବନ୍ଧୀୟ ଲାଭଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ ଆଲୋଚନା ହୋଇଥିବା ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ହେଉଛି ପାରମ୍ପାରିକ ଶ style ଳୀ ପରୀକ୍ଷଣର ଏକ ସଂଶୋଧିତ ସଂସ୍କରଣ ଏବଂ ଏହିପରି ପାରମ୍ପାରିକ ଶ style ଳୀ ଲ୍ୟାବ ସହିତ ନୂତନ CBL କ que ଶଳର ପ୍ରତ୍ୟକ୍ଷ ତୁଳନାତ୍ମକ ପ୍ରଦାନ କରିଥାଏ |ପରୀକ୍ଷଣର ଦୁଇଟି ସଂସ୍କରଣ ମଧ୍ୟରେ କ concept ଣସି ଧାରଣା ପାର୍ଥକ୍ୟ ନାହିଁ, କେବଳ ଉପସ୍ଥାପିତ ହେବାରେ କେବଳ ପାର୍ଥକ୍ୟ |ପାରମ୍ପାରିକ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ମୋଡ୍ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରୁଥିବା ସମାନ ଶ୍ରେଣୀର ଅନ୍ୟ ଛାତ୍ରମାନଙ୍କ ତୁଳନାରେ ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ଉପକରଣ ବ୍ୟବହାର କରୁଥିବା ଛାତ୍ରମାନଙ୍କ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଉପରେ ନଜର ରଖି ଏହି ସିବିଏଲ୍ ପଦ୍ଧତିଗୁଡିକର କାର୍ଯ୍ୟକାରିତାକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରାଯାଇଥିଲା |ସମସ୍ତ ଛାତ୍ରଛାତ୍ରୀଙ୍କୁ ସେମାନଙ୍କର ପରୀକ୍ଷଣ ଏବଂ ପ୍ରଶ୍ନପତ୍ର ସମ୍ବନ୍ଧୀୟ ଏକାଧିକ ପସନ୍ଦ ପ୍ରଶ୍ନ ଦାଖଲ କରି ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରାଯାଏ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନର ଫଳାଫଳକୁ ସିବିଏଲ୍ କ୍ଷେତ୍ରରେ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଆନୁସଙ୍ଗିକ ଅଧ୍ୟୟନ ସହିତ ତୁଳନା କରାଯାଇଥିଲା |
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଫେବୃଆରୀ -19-2023 |